[發明專利]一種金屬陶瓷表面處理方法

有效

• 申請號: 201410824967.1
• 申請日: 2015-08-02
• 公開（公告）號: CN104496548A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 余翔;荊桂敏
• 申請（專利權）人: 株洲茂翔硬質合金有限公司
• 主分類號: C04B41/85
• 分類號: C04B41/85
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：將陶瓷坯體置于充滿碳源氣體的真空容器中，在大于或等于陶瓷燒結溫度，真空度9^-2-10^-2MPa的條件下，進行滲碳處理，保溫2-4小時后取出陶瓷制品，滲碳完畢。

2.如權利要求1所述的一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：?所述的碳源是?9999.9%高純度碳源；可以是甲磺氣體和碳纖維棉混合在一起形成的。

3.如權利要求1所述的一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：所述的碳源氣體濃度為碳源占氣體的容積的40-60%。

4.如權利要求1所述的一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：所述的大于或等于陶瓷燒結溫度是1400-1600℃。

5.如權利要求1所述的一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：所述的碳源氣體在真空容器內是流動的，并通過循環管道一邊進氣，一邊出氣，在真空爐內循環流動。

6.如權利要求1所述的一種金屬陶瓷表面處理方法，其特征在于：本發明陶瓷滲碳方法的具體步驟如下：

第一步，表面處理步驟）

將陶瓷浸入1～55%HF溶液中30～120分鐘，對陶瓷表面及體內進行凈化處理，使得陶瓷體內的空隙潔凈；

然后，用水洗陶瓷表面，再置于烘干爐內在溫度100～300℃熱干燥4小時，制成滲碳陶瓷坯體；

第二步驟，滲碳步驟

將滲碳陶瓷坯體置于滲碳真空爐內，在封閉真空爐以后，進行抽真空，使真空度達到9^-2-10^-2MPa；并不斷向真空爐內注入高純度碳源，使得真空爐內的碳源含量達到40-60%；

然后對真空爐按5～10℃/分鐘速率加熱，當溫度達到1400-1600℃時，保溫2-4小時，并在保溫過程中通過循環泵對爐內的氣體進行循環流動，所述的碳源氣體在真空容器內是流動的，并通過循環管道一邊進氣，一邊出氣，在真空爐內循環流動；保溫結束后，從滲碳爐中取出，以風扇或自然冷卻；

第三步，形成表面保護層的步驟

將在第二步中經表面處理的滲碳陶瓷再用樹脂進行表面處理，用水洗滌；然后在溫度200℃下熱干燥，從而，得到滲碳到0.01μm到100μm的滲碳材料。