[發明專利]一種連續式真空離子鍍膜機

在審

• 申請號: 201410823619.2
• 申請日: 2014-12-26
• 公開（公告）號: CN104404474A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發明（設計）人: 關秉羽
• 申請（專利權）人: 遼寧北宇真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 鐵嶺天工專利商標事務所 21105
• 代理人: 靳萬清

1.一種連續式真空離子鍍膜機，其特征在于：具有箱式真空鍍膜室（1），箱式真空鍍膜室內的左、右兩側分別設有基膜放卷機構（2）和基膜收卷糾偏機構（3），箱式真空鍍膜室內由左至右間隔設有多排平面磁控濺射靶（4），其中左、右兩排為單面濺射平面磁控濺射靶（41）、左右兩排之間的為雙面濺射平面磁控濺射靶（42），相鄰排平面磁控濺射靶（4）之間形成有鍍膜通道（5），所述多排平面磁控濺射靶（4）的前、后兩側分別設有水冷托板（6），水冷托板（6）的外側設有傳動輥（7），傳動輥（7）位于相鄰兩排平面磁控濺射靶之間的位置；所述基膜放卷機構（2）裝設的基膜繞經所述傳動輥（7）后從所述的鍍膜通道（5）通過并由所述基膜收卷糾偏機構（3）進行糾偏后收卷。

2.如權利要求1所述的連續式真空離子鍍膜機，其特征在于：所述單面濺射平面磁控濺射靶（41）包括平面磁控濺射靶本體（410）和裝于平面磁控濺射靶本體外側的屏蔽罩（411），平面磁控濺射靶本體（410）具有靶體（412），靶體上裝有磁靴（413），在磁靴（413）的一側均布裝有多排第一永久磁體（414）、多排第一永久磁體的外側與所述屏蔽罩（411）之間依序裝有第一靶材隔水板（415）和第一靶材（416），所述雙面濺射平面磁控濺射靶（42）包括所述的平面磁控濺射靶本體（410）和裝于該平面磁控濺射靶本體外側的屏蔽罩（411），在所述磁靴（413）相對的另一側均布裝有多排第二永久磁體（424），多排第二永久磁體的外側與所述屏蔽罩（411）之間依序裝有第二靶材隔水板（425）和第二靶材（426）。