[發(fā)明專(zhuān)利]一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410822035.3 | 申請(qǐng)日： | 2014-12-25 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN104532324A | 公開(kāi)（公告）日： | 2015-04-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 姚忠平;李超楠;夏琦興;姜兆華 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C25D11/30 | 分類(lèi)號(hào)： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 哈爾濱市松花江專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人： | 牟永林 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國(guó)省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 利用 氧化 鎂合金 表面 制備 太陽(yáng) 吸收率 發(fā)射 涂層 方法 | ||
1.一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法具體是按以下步驟完成的：
一、鎂合金前處理：依次使用240#水磨砂紙、1000#水磨砂紙和1500#砂紙打磨鎂合金表面，再使用丙酮或去離子水清洗打磨后的鎂合金表面，再使用電吹風(fēng)吹干，得到處理后的鎂合金；
二、將處理后的鎂合金置于不銹鋼電解槽中，處理后的鎂合金與電源的正極相連接，作為陽(yáng)極；不銹鋼電解槽與電源的負(fù)極相連接，作為陰極；
三、采用脈沖微弧氧化電源供電，在電流密度為1A·dm-2～20A·dm-2，正向電壓為200V～700V，電源頻率10Hz～3000Hz，占空比10％～50％，電解液的溫度為20℃～50℃和電解液的pH值為8.5～13.0的條件下進(jìn)行微弧氧化反應(yīng)5min～60min，即完成利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法；
步驟三中所述的電解液由主成膜劑、輔助成膜劑和添加劑組成，溶劑為水；所述的電解液中主成膜劑的濃度為0.2g/L～20g/L，輔助成膜劑的濃度為0.1g/L～15g/L，添加劑的濃度為0.3g/L～5g/L。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟三中所述的主成膜劑為磷酸鹽；輔助成膜劑為氫氧化鈉；添加劑為氟化鈉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟三中所述的電解液由主成膜劑、輔助成膜劑和添加劑組成，溶劑為水；所述的電解液中主成膜劑的濃度為0.5g/L～15g/L，輔助成膜劑的濃度為0.1g/L～10g/L，添加劑的濃度為0.5g/L～5g/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟二中采用脈沖微弧氧化電源供電，在電流密度為3A·dm-2～10A·dm-2，正向電壓為200V～700V，電源頻率50Hz～2000Hz，占空比10％～50％，電解液的溫度為20℃～50℃和電解液的pH值為8.5～13.0的條件下進(jìn)行微弧氧化反應(yīng)5min～60min；步驟三中所述的電解液由主成膜劑、輔助成膜劑和添加劑組成，溶劑為水；所述的電解液中主成膜劑的濃度為0.3g/L～15g/L，輔助成膜劑的濃度為0.1g/L～10g/L，添加劑的濃度為0.32g/L～5g/L。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟二中采用脈沖微弧氧化電源供電，在電流密度為8A·dm-2～20A·dm-2，正向電壓為200V～700V，電源頻率50Hz～2000Hz，占空比20％～50％，電解液的溫度為20℃～50℃和電解液的pH值為8.5～13.0的條件下進(jìn)行微弧氧化反應(yīng)5min～30min；步驟三中所述的電解液由主成膜劑、輔助成膜劑和添加劑組成，溶劑為水；所述的電解液中主成膜劑的濃度為0.25g/L～10g/L，輔助成膜劑的濃度為0.1g/L～5g/L，添加劑的濃度為0.5g/L～5g/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟一中所述的鎂合金為MB15。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用微弧氧化在鎂合金表面制備低太陽(yáng)吸收率高發(fā)射率涂層的方法，其特征在于步驟三中采用脈沖微弧氧化電源供電，在電流密度為15A·dm-2～20A·dm-2，正向電壓為300V～700V，電源頻率600Hz～3000Hz，占空比10％～50％，電解液的溫度為20℃～50℃和電解液的pH值為8.5～13.0的條件下進(jìn)行微弧氧化反應(yīng)5min～20min。
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