[發明專利]一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置

在審

• 申請號: 201410818516.7
• 申請日: 2014-12-24
• 公開（公告）號: CN104465708A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 胡春靜;王輝鋒
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，所述陣列基板包括：襯底基板，形成在所述襯底基板上的第一電極層，形成在所述第一電極層上的像素界定層，所述像素界定層具有使所述第一電極層暴露的開口，形成在所述第一電極層上與所述開口區域對應的有機材料功能層，所述第一電極層與所述開口對應的區域包括：第一區域和第二區域，所述第一區域為與所述像素界定層連接的區域，所述第二區域為所述第一電極層與所述開口對應區域中除所述第一區域以外的區域，其特征在于，

所述第一電極層的所述第一區域為第一弧形結構，所述第一弧形結構朝向所述襯底基板突出。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一電極層的所述第二區域為第二弧形結構，所述第二弧形結構朝向所述襯底基板突出；

所述第二弧形結構與所述第一弧形結構平滑連接。

3.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一電極層的所述第二區域為平坦結構；

所述平坦結構與所述第一弧形結構平滑連接。

4.根據權利要求1～3任一所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一電極層上與所述像素界定層對應的區域為平坦結構。

5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述有機材料功能層上與所述第一電極層的第一區域對應的區域為第三弧形結構，所述第三弧形結構朝向所述襯底基板突出。

6.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，

所述有機材料功能層上與所述第一電極層的第二區域對應的區域為第四弧形結構，所述第四弧形結構朝向所述襯底基板突出；

所述第四弧形結構與所述第三弧形結構平滑連接。

7.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，

所述有機材料功能層上與所述第一電極層的第二區域對應的區域為平坦結構；

所述平坦結構與所述第三弧形結構平滑連接。

8.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括設置在所述第一電極層下，且緊鄰所述第一電極層的緩沖層，其中：

所述緩沖層與所述第一電極層的第一區域對應的區域為第五弧形結構，所述第五弧形結構朝向所述襯底基板突出。

9.根據權利要求8所述的陣列基板，其特征在于，

所述緩沖層與所述第一電極層的第二區域對應的區域為第六弧形結構，所述第六弧形結構朝向所述襯底基板突出；

所述第六弧形結構與所述第五弧形結構平滑連接。

10.根據權利要求8所述的陣列基板，其特征在于，

所述緩沖層與所述第一電極層的第二區域對應的區域為平坦結構；

所述平坦結構與所述第五弧形結構平滑連接。

11.根據權利要求8～10任一所述的陣列基板，其特征在于，

所述緩沖層上與所述像素界定層對應的區域為平坦結構。

12.根據權利要求1～3任一所述的陣列基板，其特征在于，

所述像素界定層的上表面與所述第一電極層的最底部的上表面之間的距離小于或者等于1.5um。

13.根據權利要求1～3任一所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一電極層的厚度為30-200nm。

14.根據權利要求1～3任一所述的陣列基板，其特征在于，

所述像素界定層的材料為疏液性的材料。

15.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在襯底基板上形成具有第一弧形結構的第一電極層；

在所述第一電極層上形成像素界定層，所述像素界定層具有使所述第一電極層暴露的開口；所述第一電極層與所述開口對應的區域包括第一區域和第二區域，所述第一區域為與所述像素界定層連接的區域，所述第二區域為所述第一電極層與所述開口對應區域中除所述第一區域以外的區域；

在所述第一電極層上與所述開口區域對應的位置形成有機材料功能層；

其中，所述第一電極層的所述第一區域為第一弧形結構，所述第一弧形結構朝向所述襯底基板突出。