[發(fā)明專利]具有對(duì)酸不穩(wěn)定的基團(tuán)的共聚物，光刻膠組合物、涂覆的基材以及形成電子器件的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410818081.6
• 申請(qǐng)日: 2014-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN104725555A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: O·昂格伊;V·簡(jiǎn)恩;J·F·卡梅隆;J·W·撒克里;S·M·高利
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號(hào): C08F220/28
• 分類號(hào): C08F220/28;C08F220/18;C08F220/38;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/16;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 王穎

1.一種共聚物，其包含源自以下單體的重復(fù)單元：

通式(I)的對(duì)酸不穩(wěn)定的單體:

其中

R¹是未取代或取代的C_1-18烷基；

R²是未取代或取代的C_1-18烷基，未取代或取代的C_7-18芳基

烷基，或未取代或取代的C_6-18芳基；

R³是-H,-F,-CH₃,或-CF₃；和

Ar是未取代或取代的C_6-18芳基；

前提是R²和Ar共包括至少9個(gè)碳原子；

內(nèi)酯取代的單體；

pK_a小于或等于12的堿溶性單體；和

光致生酸單體。

2.如權(quán)利要求1所述的共聚物，其特征在于，R¹是C_1-3烷基。

3.如權(quán)利要求1或2所述的共聚物，其特征在于，R²是C_1-3烷基，苯基，或C_1-6烷基取代的苯基。

4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的共聚物，其特征在于，Ar是苯基，C_1-6烷基取代的苯基，聯(lián)苯基或萘基。

5.如權(quán)利要求1-4中的任一項(xiàng)所述的共聚物，

其特征在于，所述內(nèi)酯取代的單體包括：

其中，所述堿溶性單體包括：

以及

其中，所述光致生酸單體包括：

6.如權(quán)利要求1所述的共聚物，其特征在于，所述對(duì)酸不穩(wěn)定的單體包括：

或其組合。

7.如權(quán)利要求1所述的共聚物，

其特征在于，所述對(duì)酸不穩(wěn)定的單體包括：

或其組合；

其中，所述內(nèi)酯取代的單體包括：

其中，所述堿溶性單體包括：

以及

其中，所述光致生酸單體包括：

8.一種包含如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的共聚物的光刻膠組合物。

9.一種涂覆的基材，其包括：

(a)基材，在該基材的表面上具有待圖案化的一個(gè)層或多個(gè)層；以及

(b)如權(quán)利要求8所述的光刻膠組合物的層，其位于所述待圖案化的一個(gè)層或多個(gè)層之上。

10.一種形成電子器件的方法，其包括：

(a)在基材上施加如權(quán)利要求8所述的光刻膠組合物的層；

(b)以圖案化方式將所述光刻膠組合物層對(duì)活化輻射曝光；以及

(c)對(duì)經(jīng)曝光的光刻膠組合物層進(jìn)行顯影，以提供光刻膠浮雕圖像。