[發(fā)明專利]馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)泛用測(cè)試治具

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410816899.4
• 申請(qǐng)日: 2014-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN104483621A
• 公開（公告）日: 2015-04-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李澤清
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 競(jìng)陸電子（昆山）有限公司
• 主分類號(hào): G01R31/28
• 分類號(hào): G01R31/28;G01R1/02
• 代理公司: 昆山四方專利事務(wù)所 32212
• 代理人: 盛建德

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于印刷電路板制造用設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種能夠通用于馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)的泛用測(cè)試治具。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，全新方位四倍密機(jī)臺(tái)與瑪尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)所用的治具除定位孔以外，其他結(jié)構(gòu)都是一樣的，因此，一般共享泛用測(cè)試治具，但是目前泛用測(cè)試治具只有一排定位孔，而且該排定位孔是適用于馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)的，全新方位四倍密機(jī)臺(tái)在使用泛用測(cè)試治具時(shí)需旋轉(zhuǎn)后從左邊套用原瑪尼亞機(jī)臺(tái)的定位孔，但是全新方位四倍密機(jī)臺(tái)上的定位孔和馬尼亞機(jī)臺(tái)的定位孔還是有些不同的，如此，全新方位四倍密機(jī)臺(tái)在架設(shè)治具時(shí)從機(jī)臺(tái)側(cè)面定位不穩(wěn)定且不容易定位。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)泛用測(cè)試治具，該馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)泛用測(cè)試治具具有馬尼亞定位孔和四倍密定位孔，使馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)各取所用，滿足兩種機(jī)臺(tái)的工作定位需求，無(wú)需旋轉(zhuǎn)套用同一排定位孔，提高了工作效率和穩(wěn)定性，且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于實(shí)施。

本發(fā)明為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)泛用測(cè)試治具，所述泛用測(cè)試治具為方形板狀，所述泛用測(cè)試治具設(shè)有兩排定位孔，第一排定位孔是與馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的馬尼亞定孔位，第二排定位孔是與全新方位四倍密機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的四倍密定位孔，所述馬尼亞定位孔和四倍密定位孔分別位于泛用測(cè)試治具相鄰的兩條邊。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的泛用測(cè)試治具設(shè)有兩排定位孔，第一排定位孔是與馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的馬尼亞定孔位，第二排定位孔是與全新方位四倍密機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的四倍密定位孔，并且馬尼亞定位孔和四倍密定位孔分別位于泛用測(cè)試治具相鄰的兩條邊，由于該泛用測(cè)試治具同時(shí)具有馬尼亞定位孔和四倍密定位孔，使馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)各取所用，滿足兩種機(jī)臺(tái)的工作定位需求，無(wú)需旋轉(zhuǎn)套用同一排定位孔，提高了工作效率和穩(wěn)定性。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)及功效。本發(fā)明也可以其它不同的方式予以實(shí)施，即，在不悖離本發(fā)明所揭示的范疇下，能予不同的修飾與改變。

實(shí)施例：一種馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)和全新方位四倍密機(jī)臺(tái)泛用測(cè)試治具，所述泛用測(cè)試治具為方形板狀，所述泛用測(cè)試治具設(shè)有兩排定位孔，第一排定位孔是與馬尼亞測(cè)試機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的馬尼亞定孔位1，第二排定位孔是與全新方位四倍密機(jī)臺(tái)上定位孔對(duì)應(yīng)的四倍密定位孔2，所述馬尼亞定位孔和四倍密定位孔分別位于泛用測(cè)試治具相鄰的兩條邊。