[發(fā)明專利]一種液晶顯示基板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410810180.X | 申請(qǐng)日: | 2014-12-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104503144A | 公開(公告)日: | 2015-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃秋蓉;李卓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 210033 江蘇省南京市仙林大道科*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 液晶顯示 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種設(shè)置定位標(biāo)記的液晶顯示基板。
背景技術(shù)
隨著TFT-LCD產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,LCD生產(chǎn)線已經(jīng)從最初的第一代擴(kuò)展到目前的10代線,能夠投入生產(chǎn)的玻璃基板尺寸也從300mm*400mm增加到2880mm*3080mm。
在產(chǎn)能擴(kuò)張的環(huán)境下,目前很多公司都擁有多條不同世代的生產(chǎn)線,但由于不同的世代線受限于設(shè)備規(guī)格,只能投入相應(yīng)尺寸的基板玻璃,例如6代線可以投入1500mm*1850mm的玻璃基板,而4.5代線只能投入730mm*920mm的玻璃基板,因此需要按照生產(chǎn)線所能投入的規(guī)格來采購玻璃基板,如此會(huì)帶來工廠管理上的問題。
液晶顯示工藝制作過程涉及設(shè)置標(biāo)記(以下稱lead?in?mark),以便于定位基板貼合和/或切割的位置。
雖然在部分世代線之間,通過將大尺寸玻璃基板經(jīng)濟(jì)切割為相應(yīng)的小尺寸基板可以實(shí)現(xiàn)在不同世代線上的投入,從而統(tǒng)一采購單一尺寸的玻璃基板,提高管理便捷性和生產(chǎn)效率,但是由于大尺寸基板切割為小尺寸基板投入時(shí),mark位置相對(duì)設(shè)備會(huì)產(chǎn)生偏移,對(duì)使用摩擦(rubbing)工藝的機(jī)種,mark位移不會(huì)對(duì)生產(chǎn)造成影響,而對(duì)于使用光配向的機(jī)種來說,若邊緣位置的設(shè)置標(biāo)記(lead?in?mark)偏移到紫外垂直配向光罩(UV2A?mask)的重疊區(qū)域,就會(huì)造成光配向機(jī)臺(tái)無法定位UV2A?mask的問題,出現(xiàn)配向紊亂。
圖1為現(xiàn)有大尺寸彩膜基板上設(shè)置有標(biāo)記的示意圖,其上包括:位于基板相對(duì)兩側(cè)的若干標(biāo)記位置5,該標(biāo)記位置5對(duì)應(yīng)紫外光垂直配向光罩(UV2A?mask)的四個(gè)平臺(tái)1、2、3、4,大基板另一側(cè)邊設(shè)置有預(yù)分?jǐn)嗑€6、切割為小尺寸基板的邊緣切割線7、以及大基板的中間分?jǐn)嗑€8,當(dāng)大基板進(jìn)入光配向機(jī)臺(tái)后,每一個(gè)紫外光配向光罩(UV2A?mask)會(huì)有對(duì)應(yīng)的影像機(jī)(line?CCD)抓取對(duì)應(yīng)的標(biāo)記位置5,然后沿標(biāo)記位置5正對(duì)的黑色掃描微調(diào)紫外光配向光罩(UV2A?mask)的位置,確保光配向精度。
在將圖1所示的大基板切割為小尺寸投入時(shí),小基板如圖2所示,由于大基板邊緣部分切割掉了10mm,導(dǎo)致基板相對(duì)標(biāo)記位置5總體位移,從而邊緣的標(biāo)記位置5正好處于兩張紫外光配向光罩(UV2A?mask)的重疊區(qū),影像機(jī)(line?CCD)無法抓取此邊緣的標(biāo)記位置5,會(huì)造成光配向紊亂的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于通過設(shè)置定位標(biāo)記可以方便的把高世代線基板切換到合適的低世代線上投入而不用變更設(shè)計(jì)方案、提高了產(chǎn)線利用率和便利性的液晶顯示基板。
本發(fā)明提供一種液晶顯示基板,該基板為大基板,大基板切割成若干小基板,該大基板依序設(shè)有第一、第二、第三、以及第四側(cè)邊,所述第一和第三側(cè)邊的邊緣設(shè)有若干標(biāo)記位置,所述第二和第四側(cè)邊的邊緣設(shè)有邊緣分?jǐn)嗑€,所述大基板內(nèi)部設(shè)有若干點(diǎn)燈分?jǐn)嗑€,連續(xù)的4根點(diǎn)燈分?jǐn)嗑€組成待切割的小基板的區(qū)域,在第一和第三側(cè)邊之間設(shè)有中間分?jǐn)嗑€,其中,相對(duì)的2個(gè)標(biāo)記位置位于待切割成小基板的邊緣位置,所述中間分?jǐn)嗑€和點(diǎn)燈分?jǐn)嗑€之間設(shè)有縱長的定位標(biāo)記,該定位標(biāo)記臨近位于小基板邊緣的標(biāo)記位置。
其中,所述定位標(biāo)記的寬度大于9mm。
其中,所述定位標(biāo)記的長度大于曝光區(qū)域的長度。
其中,所述標(biāo)記位置設(shè)有18個(gè),第一和第三側(cè)邊均設(shè)有9個(gè)標(biāo)記位置,第一和第三側(cè)邊中間的標(biāo)記位置位于待切割的小基板的邊緣。
其中,所述大基板曝光時(shí),曝光的區(qū)塊有一條黑色掃描線,該黑色掃描線能夠被光配向機(jī)臺(tái)識(shí)別。
其中,當(dāng)基板被切割為小基板時(shí),所述黑色掃描線不在光罩的重疊區(qū)。
其中,所述定位標(biāo)記設(shè)置在彩膜基板上,該定位標(biāo)記用色層和黑色矩陣材料制成。
其中,所述定位標(biāo)記設(shè)置在陣列基板上,該定位標(biāo)記用第一金屬層或源漏極金屬材料制成。
本發(fā)明通過設(shè)置新的定位標(biāo)記來解決光配向制程中,當(dāng)大尺寸基板切割為小尺寸投入時(shí),由于基板位移導(dǎo)致邊緣部分的標(biāo)記位置無法被光配向機(jī)臺(tái)影像機(jī)(line?CCD)抓取到,使得邊緣的紫外光垂直配向光罩(UV2A?mask)無法對(duì)位,從而造成邊緣部分光配向紊亂的問題。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有大尺寸基板未切割的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1所示大基板切割成小基板的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明大尺寸基板未切割的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為圖3所示大基板切割成小基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





