[發明專利]一種基于光纖腐蝕的微盤諧振腔的制作工藝在審
| 申請號： | 201410807438.0 | 申請日： | 2014-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN105790054A | 公開（公告）日： | 2016-07-20 |
| 發明（設計）人： | 張啟航 | 申請（專利權）人： | 山東海富光子科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01S3/08 | 分類號： | H01S3/08;G02B6/12;G02B6/136 |
| 代理公司： | 威海科星專利事務所 37202 | 代理人： | 于濤 |
| 地址： | 264209 山東省威海市高技術產*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 光纖 腐蝕 諧振腔 制作 工藝 | ||
1.一種基于光纖腐蝕的微盤諧振腔的制作工藝，其特征在于包括以下步驟：
步驟一、取一段光纖，去除光纖末端一段涂覆層，并將光纖末端端面切平，末端留有100-1000微米去除掉涂覆層的光纖；
步驟二、對光纖末端面及末端部100-1000微米的光纖內包層重新涂覆保護層，其末端中間200-400微米的光纖內包層不涂覆保護層；
步驟三、將光纖末端垂直靜置于濃度為氫氟酸溶液中，氫氟酸溶液與內包層進行化學反應從而對內包層進行腐蝕，同時氫氟酸溶液會沿著內包層與保護層的交界處滲入保護層，并與保有護層內的內包層進行化學反應從而對其進行腐蝕，腐蝕時間約3-10小時，利用光纖徑向腐蝕速度差，使內包層腐蝕成拋物線形狀；
步驟四、將光纖從氫氟酸溶液中取出，用去離子水沖洗，沖洗時間為一分鐘，再置于1mol/L的碳酸鈉溶液中浸泡一分鐘，然后再用去離子水超聲清洗，沖洗時間為一到兩分鐘，再用無水乙醇浸泡48小時后再經超聲清洗，去除保護層；
步驟五、沿光纖軸線向光纖末端方向保留15-25微米未被腐蝕的光纖并垂直切割，得到微盤諧振腔；
步驟六、沿光纖軸向光纖前端方向保留1-2厘米帶涂覆層光纖并垂直切割，即得到微盤諧振腔底座。
2.根據權利要求1所述的一種基于光纖腐蝕的微盤諧振腔的制作工藝，其特征在于采用電極對微盤諧振腔放電。
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