[發(fā)明專利]液晶顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410804223.3
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104503151A
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發(fā)明（設計）人: 唐岳軍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;劉華聯(lián)

技術領域

本發(fā)明涉及一種顯示裝置，尤其是涉及一種液晶顯示裝置。

背景技術

隨著光電技術的突飛猛進，使得具有體積小、重量輕、顯示效果好等特性的液晶顯示器越來越受到消費者的青睞。

圖1顯示了現(xiàn)有技術中的液晶顯示器的透視圖。在圖1中，液晶顯示器100包括下基板80、上基板90，以及設置在上基板90和下基板80之間的液晶層99。下基板80包括掃描線81、數據線82、像素電極83和薄膜晶體管84。其中，掃描線81在下基板80的內表面(即朝向上基板90的表面)上沿第一方向間隔布置。同理地，數據線82在下基板80的內表面上間隔布置，并沿與第一方向垂直的第二方向設置。像素電極83位于由掃描線81和數據線82限定的像素區(qū)域P內。上基板90包括黑底層91、濾色器層92和公共電極93。

此外，如圖2所示，在上基板90上設置有間隔物94，而在下基板80上設置凸起物85，凸起物85與上基板90的一間隔物94相接。這種設計可以使上基板90和下基板80之間保持良好的間隙。

但是，這種結構的液晶顯示器100也存在一些問題。例如，因為間隔物94和凸起物85的支承力較弱，液晶顯示器的面板可能由于重力或者外界壓力而產生問題。并由此使液晶顯示器100的顯示效果不好。

綜上所述，需要設計一種液晶顯示裝置，以增強液晶顯示裝置的顯示效果。

發(fā)明內容

針對現(xiàn)有技術中所存在的上述技術問題，本發(fā)明提出了一種液晶顯示裝置，這種液晶顯示裝置能夠提升面板的抗動壓能力，同時又能提高液晶顯示裝置的液晶允許填充量的范圍，從而保證了液晶顯示裝置的顯示效果。

根據本發(fā)明提出了一種液晶顯示裝置，包括：

第一基板，

第二基板，在第二狀態(tài)下，第二基板與第一基板相對式設置，

設置在第二基板上的第一突出物，第一突出物具有靠近其固定端的第一下部分和遠離其固定端的第一上部分，第一上部分由彈性材料制成，第一下部分由剛性材料制成，在第二狀態(tài)下，第一突出物受壓，

第二突出物，第二突出物設置在所述第二基板和/或第一基板上，第二突出物具有靠近其固定端的第二下部分和遠離其固定端的第二上部分，第二上部分由彈性材料制成，第二下部分由剛性材料制成，在第二狀態(tài)下，第二上部分的表面與其所相對的第一基板或第二基板的內表面之間具有間隙。

本發(fā)明的液晶顯示裝置，在第一基板和第二基板形成面板后，也就是第二狀態(tài)下，第一突出物的第一上部分受壓而發(fā)生較大的彈性形變，彈性回復率大，有助于提高液晶顯示裝置的液晶允許填充量范圍，并避免重力垂流不良的問題，從而增強了液晶顯示裝置的適應范圍，增加了液晶顯示裝置的顯示質量。并且，在第二狀態(tài)下，第二上部分的表面與其所相對的第一基板或第二基板的內表面之間具有間隙，使得面板具有很大可壓縮量，并能大范圍隨液晶量變化而變化，由此避免了在液晶顯示裝置中出現(xiàn)氣泡的問題。在面板上施加動壓或按壓時，第二突出物與第一突出物一起被壓縮以共同承擔壓力，從而提高了面板的抗動壓能力。同時，由于第一上部分和第二上部分的變形量很大，而第一下部分和第二下部分的剛性材料起到支撐外部壓力的作用。從而，這種結構的液晶面板兼顧了面板的液晶允許填充量范圍和抗動壓能力，保證了液晶顯示裝置的顯示品質。另外，若第一上部分或第二上部分接觸到了與其相對的基板的PI配向薄膜，由于第一上部分和第二上部分由彈性材料制成，從而減小了相對應的基板與第一上部分或第二上部分相接觸處的磨損，防止PI配向薄膜被刮傷。由此，保證了液晶顯示裝置的顯示質量。

在一個實施方式中，間隙為0.01到0.2微米。通過這種設置在兼顧增加液晶允許填充量范圍的同時，提高了液晶顯示裝置的抗動壓能力。

在一個具體實施方式中，第一突出物在第二基板上均勻分布，

和/或在第二狀態(tài)下，第二突出物處于第一突出物的外部，并且圍繞第一突出物均勻分布。通過這種設置，使得整個面板上各處的抗動壓等性能比較均勻，從而增加了液晶顯示裝置的品質。同時，這種結構有利于加工生產，便于制造，有利于降低生產成本。

在一個具體實施方式中，第二突出物的分布密度大于第一突出物的分布密度。通過這種設置，在保證面板之間支承力的同時，提高了面板的抗動壓能力。

在一個具體實施方式中，在第一狀態(tài)下，第一突出物的高程大于第二突出物的高程，