[發明專利]一種石英振蕩器真空濺射鍍膜裝置在審
| 申請號: | 201410804202.1 | 申請日: | 2014-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN105763165A | 公開(公告)日: | 2016-07-13 |
| 發明(設計)人: | 王棟;李新生;張浩 | 申請(專利權)人: | 西安鴻騰信息科技有限公司 |
| 主分類號: | H03H3/02 | 分類號: | H03H3/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 710077 陜西省西安市高新區*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石英 振蕩器 真空 濺射 鍍膜 裝置 | ||
1.一種石英振蕩器真空濺射鍍膜裝置,包括底板、濺射夾具和多塊掩膜板,所述濺射夾具安裝在所述底板上,其特征在于:所述濺射夾具包括單邊卡槽和雙邊卡槽,所述雙邊卡槽設置在兩個所述單邊卡槽之間,兩個所述掩膜板分別嵌入所述雙邊卡槽與兩個所述單邊卡槽之間。
2.根據權利要求1所述的石英振蕩器真空濺射鍍膜裝置,其特征在于:所述掩膜板包括上框架、下框架、上掩膜板和下掩膜板,所述上掩膜板由所述上框架固定,所述下掩膜板由所述下框架固定,石英晶片放置在所述上掩膜板和所述下掩膜板之間。
3.根據權利要求1所述的石英振蕩器真空濺射鍍膜裝置,其特征在于:所述掩膜板上的通孔為876個。
4.根據權利要求1所述的石英振蕩器真空濺射鍍膜裝置,其特征在于:所述雙邊卡槽與兩個所述單邊卡槽之間的距離不大于5mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安鴻騰信息科技有限公司,未經西安鴻騰信息科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410804202.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





