[發明專利]隧道洞口防落石構造

有效

• 申請號: 201410798591.1
• 申請日: 2014-12-18
• 公開（公告）號: CN104533442A
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 熊祥雪;琚國全;趙萬強;馬青;譚永杰;曹彧;何昌國;胖濤;鄭長青;羅祿森
• 申請（專利權）人: 中鐵二院工程集團有限責任公司
• 主分類號: E21D9/14
• 分類號: E21D9/14
• 代理公司: 成都惠迪專利事務所(普通合伙) 51215
• 代理人: 王建國

技術領域

本發明涉及鐵路、公路隧道進出口，適用于隧道洞口因卸荷裂隙帶造成危巖落石發育，而影響洞口結構及運營安全的鐵路、公路隧道洞口危巖落石處理。

背景技術

山區鐵路、公路受地形限制，線路常常在崇山峻嶺中穿行，不可避免的會跨越山嶺中的溝谷，河流。因受線路曲線半徑的限制，線路需以隧道工程穿越崇山峻嶺，以橋梁工程跨越溝谷、河流，特別是在隧道洞口地形陡峻、峽谷深切地段，還常以橋隧相連的形式出現。

由于橋隧相連地段受地形及施工場地的限制，隧道進出口的邊、仰坡高陡，地質條件惡劣，在雨水及地震等自然災害的作用下，會形成危巖、落石、崩塌等，極易對隧道洞口及緊鄰的橋梁工程造成巨大危害，嚴重威脅運營安全。為避免或降低隧道洞口危巖、落石等一系列不良地質對緊鄰的橋梁工程的危害，保證隧道洞口、橋梁結構的安全、穩定及行車安全，有必要在橋隧緊鄰地段采取防護措施，以確保緊鄰的橋隧銜接地段的結構安全。

針對洞口的危巖落石，常用的處理方法為清除洞口危巖落石采用漿砌片石進行補嵌，并在隧道洞口增長棚洞或明洞結構以防零星落石對結構運營安全造成影響。

隧道洞口存在危巖落石時，一般邊坡陡峻，危巖落石發育。采用清方處理時，刷方量巨大，處理起來困難重重。以新建重慶至利川線新屋隧道出口為例，為清除洞口危巖落石，洞口刷方高達60m。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種隧道洞口防落石構造，以大幅度地降低隧道洞口刷方量和防落石工程造價，降低施工難度。

本發明所采取的技術方案如下：

本發明的隧道洞口防落石構造，包括隧道洞門結構和位于其上方坡面上的危巖落石發生區域，其特征是：所述隧道洞門結構和危巖落石發生區域之間，在坡面上設置落石誘導槽，該落石誘導槽具有靠近危巖落石發生區域的弧形頂段，以及原沿坡面向下延伸至隧道洞門結構和線路的外側以外的左側段、右側段。

本發明的有益效果是，在原坡面設置落石誘導槽，在發生落石下滑時，可以誘導落石順著槽下滑，起到對既有結構及線路運營安全的保護作用；由于落石誘導槽規模較小，可以避免對既有山體坡面造成大的刷方，大幅度地降低防落石工程造價，并最大程度地減少對原的地表植被的破壞；落石誘導槽還可兼做隧道洞口排水天溝的作用，落石誘導槽施工較原有危巖落石處理構造施工更為方便、安全。

附圖說明

本說明書包括如下四幅附圖：

圖1是本發明隧道洞口防落石構造的平面示意圖；

圖2是本發明隧道洞口防落石構造的縱斷面結構示意圖；

圖3是本發明隧道洞口防落石構造的橫斷面結構示意圖；

圖中示出構件、部位名稱及所對應的標記：落石誘導槽11、隧道洞門結構12、危巖落石發生區域21。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。

參照圖1、圖2和圖3，本發明的隧道洞口防落石構造，包括隧道洞門結構12和位于其上方坡面上的危巖落石發生區域21。所述隧道洞門結構12和危巖落石發生區域21之間，在坡面上設置落石誘導槽11，該落石誘導槽11具有靠近危巖落石發生區域21的弧形頂段，以及原沿坡面向下延伸至隧道洞門結構12和線路的外側以外的弧形左側段、弧形右側段。危巖落石發生區域21所產生的落石，下落入落石誘導槽11內，由落石誘導槽11改變其運動軌跡，使其沿著落石誘導槽11滾落，避免對線路造成破壞和影響線路運營安全。

參照圖1，作為一種典型的結構形式，所述落石誘導槽11在坡面上的線型呈倒U型。

本發明和現有清方處理措施相比較，可以避免對既有山體坡面造成大的刷方，大幅度地降低防落石工程造價，并最大程度地減少對原的地表植被的破壞，施工較原有危巖落石處理構造施工更為方便、安全。

以渝利線某隧洞洞口為例，為確保隧道洞口結構安全和線路運營安全，需清除洞口圍巖落石和卸荷裂隙發育帶，預計共需清方約2.1萬方，隧道洞口仰坡刷方高度達60m，工程造價約3600萬元。若改為本發明的隧道洞口防落石構造，通過設置3m底寬×2m高×280m長的落石誘導槽，可有效避免洞口危巖落石及卸荷裂隙帶對隧道洞口及線路運營安全造成的影響，工程造價僅約700萬元，節約工程造價2900萬元，經濟效益十分顯著。

以上所述只是用圖解說明本發明隧道洞口防落石構造的一些原理，并非是要將本發明局限在所示和所述的具體結構和適用范圍內，故凡是所有可能被利用的相應修改以及等同物，均屬于本發明所申請的專利范圍。