[發明專利]薄膜晶體管及其制作方法,薄膜晶體管組件、陣列基板及顯示裝置有效
| 申請號: | 201410796010.0 | 申請日: | 2014-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN104393053B | 公開(公告)日: | 2018-10-23 |
| 發明(設計)人: | 周慶高;李鵬;馮忠;孟盼盼;劉祖宏;吳代吾;侯智 | 申請(專利權)人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/786 | 分類號: | H01L29/786;H01L27/02;H01L21/336;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 湯雄軍 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜晶體管 及其 制作方法 組件 陣列 顯示裝置 | ||
薄膜晶體管及其制作方法,薄膜晶體管組件、陣列基板及顯示裝置,一種薄膜晶體管,包括:基板;設置在基板上的柵極、柵極絕緣部、半導體部、源極和漏極,半導體部與柵極之間利用柵極絕緣部隔開,源極和漏極與半導體部連接,其中:柵極和半導體部在基板上的投影彼此不重疊。柵極、柵極絕緣部、半導體部、源極和漏極可同層布置。或者,柵極絕緣部的一部分設置在半導體部和源、漏極所在層與基板之間;且柵極直接設置在基板上。或者,半導體部和源、漏極同層直接布置在基板上;且柵極絕緣部的一部分設置在柵極所在層與基板之間。
技術領域
本發明的實施例涉及顯示技術領域,尤其涉及薄膜晶體管及其制作方法,薄膜晶體管組件、陣列基板和顯示裝置。
背景技術
在TFT-LCD中,需要使用薄膜晶體管場效應管(TFT)。TFT由柵極、源極、漏極、有源層等形成,通過柵極控制TFT以使得TFT起到開關作用,通過外接輸入的數據電信號產生電容的電勢變化,從而驅動液晶偏轉,在屏幕上呈現出圖像或者畫面。
現有技術中TFT-LCD的制造工藝一般包括如下流程:在基板上形成柵極層(金屬層)、然后形成柵極絕緣層、在柵極絕緣層上形成半導體層(例如使用a-Si)、在半導體層上形成源漏極層(金屬層)、在源漏極層上形成鈍化層、最后形成像素電極層。
基于上述工藝制造的TFT中,其膜層的數量最多處可達6層,最少處可至2層,段差比較大,很容易產生斷線。
發明內容
本發明的目的是減少TFT的膜層數,從而降低TFT制造過程中由于段差較大而造成的斷線不良率。
為達到上述目的,本發明的技術解決方案如下:
根據本發明的實施例的一個方面,提出了一種薄膜晶體管,包括:基板;設置在基板上的柵極、柵極絕緣部、半導體部、源極和漏極,半導體部與柵極之間利用柵極絕緣部隔開,源極和漏極與半導體部連接,其中:柵極和半導體部在基板上的投影彼此不重疊。
在一個可選的實施例中,源極、漏極、柵極分別具有露出到鈍化層外側的部分;源極連接部、漏極連接部和柵極連接部在鈍化層外側分別與源極、漏極和柵極電連接。
可選地,柵極、柵極絕緣部、半導體部、源極和漏極同層布置。
或者可選地,柵極絕緣部的一部分設置在半導體部和源、漏極所在層與基板之間;且柵極直接設置在基板上。
或者可選地,半導體部和源、漏極同層直接布置在基板上;且柵極絕緣部的一部分設置在柵極所在層與基板之間。
可選地,上述薄膜晶體管還包括鈍化層,柵極、源極、漏極、柵極絕緣部和半導體部設置在基板與鈍化層之間。
根據本發明的實施例的另一方面,提出了一種薄膜晶體管組件,包括:上述的具有鈍化層的薄膜晶體管;和分開設置的源極連接部、漏極連接部和柵極連接部,源極連接部、漏極連接部和柵極連接部分別與源極、漏極和柵極電連接。
可選地,源極、漏極、柵極分別具有露出到鈍化層外側的部分;源極連接部、漏極連接部和柵極連接部在鈍化層外側分別與源極、漏極和柵極電連接。
或者可選地,鈍化層的邊緣設置有三個凹口,分別露出源極、漏極、柵極;源極連接部、漏極連接部和柵極連接部經由所述三個凹口分別與源極、漏極和柵極電連接。
或者可選地,鈍化層設置有三個過孔,分別露出源極、漏極、柵極;源極連接部、漏極連接部和柵極連接部經由所述三個過孔分別與源極、漏極和柵極電連接,源極連接部、漏極連接部和柵極連接部中的每一個至少部分位于鈍化層上。
根據本發明的實施例的再一方面,提出了一種薄膜晶體管的制造方法,包括步驟:提供基板;和在基板上設置柵極、柵極絕緣部、半導體部、源極和漏極,使得半導體部與柵極之間利用柵極絕緣部隔開,源極和漏極與半導體部連接,且柵極和半導體部在基板上的投影彼此不重疊。
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