[發明專利]通過照射熒光材料面產生光輻射圖案

在審

• 申請號: 201410795880.6
• 申請日: 2014-12-18
• 公開（公告）號: CN104728778A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發明（設計）人: 斯特凡·施魏格爾;奧利弗·黑林;于爾根·哈格爾
• 申請（專利權）人: 歐司朗有限公司
• 主分類號: F21V9/08
• 分類號: F21V9/08;F21S8/10
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;李慧

技術領域

本發明涉及一種用于借助至少一個初級光束在預定的圖像構建時間內通過照射熒光材料面來產生光輻射圖案的方法。本發明也涉及一種用于在預定的圖像構建時間內產生光輻射圖案的照明設備，其具有用于產生至少一個初級光束的至少一個光源以及用于使得由至少一個光源產生的初級光束對準熒光材料面的偏轉裝置，其中，熒光材料面設置用于在初級光束的焦點處使所屬的初級光至少部分地轉變成不同波長的次級光。本發明能特別地應用與探照燈上，特別是行駛工具的探照燈上、特別是具有AFS(“Adaptive?Frontlighting?System自適應轉向前燈系統”)或ADB(“Adaptive?Driving?Beam自適應遠光”)的探照燈上。

背景技術

對于產生時間上變化的光輻射圖案而言有以下可行性，相應的光分布借助激光寫在與其隔開的轉換著色劑上(“Remote?Phosphor遠程熒光”)。在該處產生的光分布(“照明圖案”)能夠利用經典的映射系統映射到遠距離范圍中，并且在該處產生所期望的光輻射圖案。在此，通常矩陣狀構造的照明圖案寫在顯示屏上，并且在圖像構建期間或者在預定的圖像構建時間內，用于使由至少一個光源產生的初級光束瞄準的偏轉裝置依次對準每個像點或“像素”。如果要照射像點，那么接通光源。如果不要照射像點，那么切斷光源。可替換地，光源還能夠以持續運行來運作并且用于選擇性地照射和不照射光闌。在該方法中對于照明用途的缺點是，僅僅照射了可能的像點的一部分，而且由其輻射的總體光功率在預定的圖像構建時間內下降。

DE?10?2007?025?330?A1公開了一種投影儀，其具有用于射出相應光束的至少兩個光源和用于使光射束轉向到投影面上的投影裝置，其中，如下地設計光源中的至少兩個，即其使光束以預定義的彼此間的角度來射出。另一種的投影儀具有用于共線地射出相應光束的至少兩個光源，用于使光束非共線地轉向的轉向系統和用于使非共線的光束轉向到投影面上的投影裝置，其中轉向系統具有至少一個共同的光學微元件。

EP?1?351?522?A2公開了一種掃描式光學顯示系統，其具有少量的部件且稍微地小型化。該系統包括射出了具有彼此不同波長范圍的光的多個光源、用于組合由光源發射的大量光束的光整合元件、和光學采樣系統，其使所組合的光掃描式地施加到掃描表面上。光整合元件是光學衍射元件。

US?2005/0110954?A1公開了一種光投影儀，其具有用于使圖像投影到屏幕上的投影部件，以用于通過激光掃描來顯示圖像。激光包括大量激光束。投影裝置利用大量激光束以時間差來幅照在屏幕上基本上相同的位置。對應于激光束中的每一個的圖像信號具有時間差，從而前面的激光束相對于后面的激光束來說是延遲的，以便與幅照時的時間偏移相對應。

US?2006/0044297?A1公開了一種圖像顯示設備，其具有帶大量光發射器的光源和光學的投影系統，由此光源的光掃描地或采樣地在主掃描方向上和在從掃描方向上照射，以便在屏幕上產生具有預定數量的像素的圖像。在主掃描方向上的掃描行通過由光發射器中的每一個發射的光來形成且如下地控制，即其彼此重疊地映射在屏幕上。

為了產生具有時間上變化的光分布(“Adaptive?Frontlighting?System自適應轉向前燈系統”；AFS)的光輻射圖案，特別是不利用大的可移動的部件，公知的是矩陣式LED探照燈或者具有旋轉的遮光輥的HID-AFS(HID＝High?Intensity?Discharge?Lamp高壓氣體放電燈)。在此不利的是，在光輻射圖案的每個像點中必須維持或者甚至必須不必要地產生多到能夠持續達到最大可能的、所期望的亮度的光。因此，總體上維持了在實際運行中典型地無法充分利用的過多潛在光功率。

發明內容

本發明的目的是，至少部分地克服現有技術的缺點，并且特別地提供了特別有效的且價格低廉的可行性，以產生用于光投影的光輻射圖案。

該目的根據從屬權利要求的特征來實現。優選的實施方式特別能由從屬權利要求中獲得。

該目的特別地通過用于借助至少一個同心的初級光束通過照射熒光材料面來產生光輻射圖案的方法來實現，其中，初級光束僅對準能照亮的熒光材料面的一個子面(“所瞄準的子面”)，并且這些子面的至少一個子區域的照射比在均勻地照射能照亮的熒光材料面時更強烈。照射優選地在預定的圖像構建時間內進行。

優選地，與能照亮的熒光材料面的均勻照射的比較涉及利用最大的總體光功率的均勻照射。優選地，與能照亮的熒光材料面的均勻照射的比較涉及在預定的圖像構建時間內最大能照亮的、特別是所有的熒光材料面的均勻照射。