[發明專利]半反半透玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201410795647.8
• 申請日: 2014-12-18
• 公開（公告）號: CN104527165A
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 劉玉華;方鳳軍;何建軍;杜曉峰;邊彬
• 申請（專利權）人: 宜昌南玻顯示器件有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 生啟

1.一種半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率為18％～75％，所述半反半透玻璃包括依次層疊的玻璃基板、第一低折射率層、第一高折射率層、第二低折射率層、第二高折射率層、第三低折射率層、第三高折射率層及第四高硬度折射率層；

所述第一低折射率層的材料為SiO₂；

所述第一高折射率層的材料為Nb₂O₅；

所述第二低折射率層的材料為SiO₂；

所述第二高折射率層的材料為Nb₂O₅；

所述第三低折射率層的材料為SiO₂；

所述第三高折射率層的材料為Nb₂O₅；

所述第四高硬度折射率層的材料為Si₃N₄；

所述第一低折射率層的厚度為

所述第一高折射率層的厚度為

所述第二低折射率層的厚度為

所述第二高折射率層的厚度為

所述第三低折射率層的厚度為

所述第三高折射率層的厚度為

所述第四高硬度折射率層的厚度為

2.根據權利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的折射率為1.52。

3.根據權利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的厚度為0.3～3.0mm。

4.根據權利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率為50％，所述第一低折射率層的厚度為所述第一高折射率層的厚度為所述第二低折射率層的厚度為所述第二高折射率層的厚度為所述第三低折射率層的厚度為所述第三高折射率層的厚度為所述第四高硬度折射率層的厚度為

5.根據權利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率為70％，所述第一低折射率層的厚度為所述第一高折射率層的厚度為所述第二低折射率層的厚度為所述第二高折射率層的厚度為所述第三低折射率層的厚度為所述第三高折射率層的厚度為所述第四高硬度折射率層的厚度為

6.根據權利要求1所述的半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃的反射率為20％，所述第一低折射率層的厚度為所述第一高折射率層的厚度為所述第二低折射率層的厚度為所述第二高折射率層的厚度為所述第三低折射率層的厚度為所述第三高折射率層的厚度為所述第四高硬度折射率層的厚度為

7.一種半反半透玻璃的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板的表面依次磁控濺射沉積第一低折射率層、第一高折射率層、第二低折射率層、第二高折射率層、第三低折射率層、第三高折射率層及第四高硬度折射率層，得到反射率為18％～75％的所述半反半透玻璃，其中，所述第一低折射率層的材料為SiO₂，所述第一高折射率層的材料為Nb₂O₅，所述第二低折射率層的材料為SiO₂，所述第二高折射率層的材料為Nb₂O₅，所述第三低折射率層的材料為SiO₂，所述第三高折射率層的材料為Nb₂O₅，所述第四高硬度折射率層的材料為Si₃N₄，所述第一低折射率層的厚度為所述第一高折射率層的厚度為所述第二低折射率層的厚度為所述第二高折射率層的厚度為所述第三低折射率層的厚度為所述第三高折射率層的厚度為所述第四高硬度折射率層的厚度為

8.根據權利要求7所述的半反半透玻璃的制備方法，其特征在于，還包括步驟：對所述玻璃基板進行清洗并干燥。

9.根據權利要求7所述的半反半透玻璃的制備方法，其特征在于，所述玻璃基板的折射率為1.52。

10.根據權利要求7所述的半反半透玻璃的制備方法，其特征在于，所述玻璃基板的厚度為0.3～3.0mm。