[發明專利]液晶面板及其制備方法有效
| 申請號: | 201410789898.5 | 申請日: | 2014-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN104503159B | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 熊源 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙)44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶面板 及其 制備 方法 | ||
1.一種液晶面板,包括第一基板、第二基板、及配置于所述第一基板與第二基板之間的液晶層,其特征在于,所述液晶面板還包括位于第一基板的:
像素電極,包括至少一個主像素區域及至少一個亞像素區域,其中主像素區域的第一色阻厚度大于亞像素區域的第二色阻厚度;使所述主像素區域和所述亞像素區域在相同電壓下對液晶層產生不同的驅動效率;
薄膜晶體管,分別連接于數據線、掃描線和像素電極;以及
存儲電容,連接于所述像素電極。
2.如權利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述像素電極還包括至少一個第一過渡像素區域,位于所述主像素區域與所述亞像素區域之間,第一過渡像素區域的第三色阻厚度位于所述第一色阻厚度與所述第二色阻厚度之間,且所述第三色阻為一預設高度或一漸變的高度區間。
3.如權利要求2所述的液晶面板,其特征在于,所述第一過渡像素區域呈三角形、階梯形、或圓弧形中的一種。
4.如權利要求1所述的液晶面板,其特征在于:
在所述像素電極上形成第一貫穿孔,所述第一貫穿孔從所述像素電極貫穿至所述薄膜晶體管,并在所述像素電極和所述第一貫穿孔的表層鋪設金屬層以形成所述數據線,使所述數據線連接所述像素電極。
5.如權利要求4所述的液晶面板,其特征在于:
在所述像素電極上形成第二貫穿孔,所述第二貫穿孔從所述像素電極貫穿至所述存儲電容,并在所述像素電極和所述第二貫穿孔的表層鋪設金屬層,以連接所述像素電極和所述存儲電容。
6.如權利要求5所述的液晶面板,其特征在于,所述像素電極還包括至少一個第二過渡像素區域,位于所述第一貫穿孔或/和所述第二貫穿孔的一側或兩側,第二過渡區域的第四色阻厚度為從所述第一色阻厚度或第二色阻厚度開始遞減的漸變區間。
7.如權利要求6所述的液晶面板,其特征在于,所述第二過渡像素區域呈三角形、階梯形、或圓弧形中的一種。
8.如權利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述薄膜晶體管包括:
柵電極,連接于所述掃描線;
源電極,連接于所述連接于所述數據線,接收電子輸入;
漏電極,連接于所述像素電極,進行電子輸出;以及
有源層,由銦鎵鋅氧化物材料制成,用于形成導電溝道。
9.一種液晶面板的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
制備第一基板;
在所述第一基板上生成薄膜晶體管、存儲電容和像素電極,所述像素電極包括至少一個主像素區域及至少一個亞像素區域,所述主像素的第一色阻厚度大于所述亞像素的第二色阻厚度;使所述主像素區域和所述亞像素區域在相同電壓下對液晶層產生不同的驅動效率;
制備第二基板;以及
在所述第一基板與所述第二基板之間填充液晶分子,用以形成液晶層。
10.如權利要求9所述的制備方法,其特征在于,在生成像素電極的步驟中,還包括:
生成至少一個第一過渡像素區域,位于所述主像素區域與所述亞像素區域之間,第一過渡像素區域的第三色阻的厚度介于所述第一色阻厚度與所述第二色阻厚度之間;和/或
生成至少一個第二過渡像素區域,位于所述薄膜晶體管與所述像素電極之間的第一貫穿孔和/或所述存儲電容與所述像素電極之間的第二貫穿孔的兩側,第二過渡區域的第四色阻厚度為從所述第一色阻厚度或所述第二色阻厚度開始遞減的漸變區間。
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