[發(fā)明專利]顯示裝置及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410788288.3 | 申請日: | 2014-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN104391402A | 公開(公告)日: | 2015-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭金寶 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 宋珊珊 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
相對而置的第一基板和第二基板;
支撐在所述第一基板和第二基板之間的吸附式間隙控制物,所述吸附式間隙控制物的第一端形成在所述第一基板的內(nèi)側(cè),所述吸附式間隙控制物的第二端吸附在所述第二基板的內(nèi)側(cè);
其中,第一基板的內(nèi)側(cè)為第一基板與第二基板相對的一側(cè),第二基板的內(nèi)側(cè)為第二基板與第一基板相對的一側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述吸附式間隙控制物包括柱狀隔墊物和吸附件;所述柱狀隔墊物的第一端形成在所述第一基板的內(nèi)側(cè),所述吸附件形成在所述柱狀隔墊物的第二端。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于,所述吸附件與所述第二基板的內(nèi)側(cè)吸附一端的尺寸大于所述柱狀隔墊物的第二端的尺寸。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,所述吸附件是碗型吸附件,所述碗型吸附件碗型的內(nèi)表面吸附在所述第二基板的內(nèi)側(cè)。
5.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置,其特征在于,所述吸附件是盤型吸附件,所述盤型吸附件盤型的內(nèi)表面吸附在所述第二基板的內(nèi)側(cè)。
6.如權(quán)利要求1-5中任一所述的顯示裝置,其特征在于,所述吸附式間隙控制物的第二端的在所述第一基板的投影位于所述吸附式間隙控制物的第一端在所述第一基板的投影內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述第一基板是彩膜基板,所述第二基板是陣列基板且陣列基板的內(nèi)側(cè)包括取向膜。
8.一種權(quán)利要求1-7中任一所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,包括如下步驟:
形成第一基板和第二基板;
在所述第一基板之上形成吸附式間隙控制物;
在真空中,將所述第二基板和第一基板對盒,所述吸附式間隙控制物的另一端與所述第二基板吸附。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,在所述第一基板之上形成吸附式間隙控制物包括如下步驟:
第一次涂布光刻膠,第一次涂布的光刻膠用于形成柱狀隔墊物;
通過第一掩膜版進(jìn)行第一曝光,第一次曝光用于形成柱狀隔墊物;
第二次涂布光刻膠,第二次涂布的光刻膠用于形成吸附件;
通過漸變透過率的掩膜版進(jìn)行第二次曝光,第二次曝光用于形成吸附件,所述漸變透過率的掩膜版的曝光區(qū)與柱狀隔墊物端部相對;
顯影,去除柱狀隔墊物和吸附件之外的光刻膠。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述漸變透過率的掩膜版的曝光區(qū)的尺寸小于第一掩膜版的曝光區(qū)的尺寸。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





