[發(fā)明專利]位移檢測(cè)單元及檢測(cè)方法、基板處理裝置及處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410779302.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104851822A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 角間央章 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 斯克林集團(tuán)公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;H01L21/68;H01L21/67 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;向勇 |
| 地址: | 日本國(guó)京*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 位移 檢測(cè) 單元 方法 處理 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種對(duì)定位對(duì)象物進(jìn)行拍攝來(lái)對(duì)距基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測(cè)的位移檢測(cè)裝置及位移檢測(cè)方法和利用該技術(shù)的基板處理裝置及基板處理方法。
背景技術(shù)
日本特開(kāi)2012-104732號(hào)公報(bào)上記載的技術(shù)為將涂敷液涂敷在基板上的技術(shù),通過(guò)將噴嘴定位在與保持在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)上進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板的旋轉(zhuǎn)中心相對(duì)的位置上,并從該噴嘴向基板的旋轉(zhuǎn)中心噴出涂敷液,來(lái)將涂敷液涂敷在基板的表面上。在該技術(shù)中,CCD照相機(jī)從在水平面(XY面)內(nèi)垂直的2個(gè)方向(X方向和Y方向)對(duì)在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)的中心設(shè)置的吸引口和噴嘴進(jìn)行拍攝,基于所得到的圖像來(lái)檢測(cè)噴嘴有無(wú)位移,調(diào)整噴嘴的X方向位置和Y方向位置。
在上述現(xiàn)有技術(shù)中,通過(guò)光軸在水平方向上垂直的2臺(tái)CCD照相機(jī)對(duì)作為定位動(dòng)作的對(duì)象物的噴嘴進(jìn)行拍攝。因此,噴嘴在X方向上的位移僅能僅由將Y方向設(shè)為拍攝方向的照相機(jī)來(lái)檢測(cè),另一方面,噴嘴在Y方向上的位移僅能僅由將X方向設(shè)為拍攝方向的照相機(jī)來(lái)檢測(cè)。因此,必須有2臺(tái)CCD照相機(jī)。而且,這些CCD照相機(jī)采用專用于噴嘴的定位的配置。但是,在這樣的位移檢測(cè)技術(shù)中,從節(jié)省空間和低成本化的觀點(diǎn)來(lái)看,希望確立照相機(jī)(拍攝單元)的數(shù)量更少且在拍攝單元的配置方面自由度更高的技術(shù)。上述現(xiàn)有技術(shù),尚未能滿足這樣的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而提出的,其目的在于,在對(duì)定位對(duì)象物進(jìn)行拍攝來(lái)對(duì)距基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測(cè)的技術(shù)中,提供一種能夠從一個(gè)拍攝方向進(jìn)行拍攝來(lái)對(duì)定位對(duì)象物的位移進(jìn)行檢測(cè),并且拍攝單元的配置的自由度高的技術(shù)。
本發(fā)明的一方式為對(duì)定位對(duì)象物相對(duì)于基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測(cè)的位移檢測(cè)裝置,為了實(shí)現(xiàn)上述目的,具有:
拍攝單元,將所述定位對(duì)象物作為拍攝對(duì)象物,或?qū)殡S所述定位對(duì)象物的位移而與所述定位對(duì)象物一體地進(jìn)行位移的物體作為拍攝對(duì)象物,對(duì)該拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝,
檢測(cè)單元,基于所述拍攝單元對(duì)所述拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝得到的檢測(cè)用圖像,對(duì)所述定位對(duì)象物的位移進(jìn)行檢測(cè);
所述拍攝單元將包含與所述拍攝對(duì)象物的位移方向平行的分量和與所述位移方向不平行的分量的方向作為拍攝方向,對(duì)所述拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝,
所述檢測(cè)單元基于所述檢測(cè)用圖像與基準(zhǔn)圖像的圖案匹配結(jié)果,對(duì)所述定位對(duì)象物相對(duì)于所述基準(zhǔn)位置的位移中的與所述拍攝方向不平行的分量進(jìn)行檢測(cè),所述基準(zhǔn)圖像為在所述定位對(duì)象物位于所述基準(zhǔn)位置時(shí),所述拍攝單元對(duì)所述拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝而得到的圖像。
而且,本發(fā)明的另一種方式為對(duì)定位對(duì)象物相對(duì)于基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測(cè)的位移檢測(cè)方法,為了實(shí)現(xiàn)上述目的,
包括:
拍攝工序,將所述定位對(duì)象物作為拍攝對(duì)象物,或?qū)殡S所述定位對(duì)象物的位移而與所述定位對(duì)象物一體地進(jìn)行位移的物體作為拍攝對(duì)象物,并對(duì)該拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝來(lái)獲取檢測(cè)用圖像,
檢測(cè)工序,基于所述檢測(cè)用圖像,對(duì)所述定位對(duì)象物的位移進(jìn)行檢測(cè);
在所述拍攝工序中,將包含與所述拍攝對(duì)象物的位移方向平行的分量及與所述位移方向不平行的分量的方向作為拍攝方向,并對(duì)所述拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝,
在所述檢測(cè)工序中,基于所述檢測(cè)用圖像與基準(zhǔn)圖像的圖案匹配結(jié)果,對(duì)所述定位對(duì)象物相對(duì)于所述基準(zhǔn)位置的位移中的與所述拍攝方向不平行的分量進(jìn)行檢測(cè),所述基準(zhǔn)圖像為在所述定位對(duì)象物位于所述基準(zhǔn)位置的狀態(tài)下,對(duì)所述拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝而得到的圖像。
在這些發(fā)明中,將包括與拍攝對(duì)象物的位移方向平行的分量和與該位移方向不平行的分量作為拍攝方向(在包括光學(xué)成像系統(tǒng)的拍攝單元中,為光學(xué)成像系統(tǒng)的光軸方向),對(duì)拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝。因此,拍攝對(duì)象物的位移中的與拍攝方向不平行的分量,表現(xiàn)為在所拍攝的圖像中的拍攝對(duì)象物的位移。因此,通過(guò)在有可能包含伴隨定位對(duì)象物相對(duì)于基準(zhǔn)位置的位移而帶來(lái)的拍攝對(duì)象物的位移的檢測(cè)用圖像,與在定位對(duì)象物位于基準(zhǔn)位置上的狀態(tài)下對(duì)拍攝對(duì)象物進(jìn)行拍攝而得到的基準(zhǔn)圖像之間,進(jìn)行圖案匹配,由此能夠檢測(cè)到拍攝對(duì)象物的位移。
這樣,在本發(fā)明中,將包含與拍攝對(duì)象物的位移方向平行的分量和與該位移方向不平行的分量的方向作為拍攝方向進(jìn)行拍攝,并且,在檢測(cè)用圖像和基準(zhǔn)圖像之間進(jìn)行圖案匹配,由此能夠通過(guò)從一個(gè)拍攝方向進(jìn)行拍攝而檢測(cè)定位對(duì)象物的位移。另外,因?yàn)閺陌ㄅc拍攝對(duì)象物的位移方向平行的分量和與該位移方向不平行的分量的各種拍攝方向進(jìn)行拍攝,在執(zhí)行拍攝的拍攝單元的配置方面可以確保很高的自由度。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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