[發明專利]Nb-Si系金屬間化合物高溫結構材料的擴散焊方法

無效

• 申請號: 201410778116.8
• 申請日: 2014-12-15
• 公開（公告）號: CN104625395A
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 范瑋;毛唯;熊華平;程耀永;周媛;陳波;吳欣;張寒
• 申請（專利權）人: 中國航空工業集團公司北京航空材料研究院
• 主分類號: B23K20/14
• 分類號: B23K20/14;B23K20/24
• 代理公司: 中國航空專利中心 11008
• 代理人: 陳宏林

1.一種Nb-Si系金屬間化合物高溫結構材料的擴散焊方法，其特征在于：該方法的步驟為：

⑴用200#、400#、600#、800#、1000#、2000#金相砂紙逐級對兩個待焊工件的表面進行磨光，然后將工件放在丙酮溶液中進行超聲波清洗；

⑵采用磁控濺射工藝在兩個待焊工件的表面制備納米薄膜

2.1選取與Nb-Si系金屬間化合物高溫結構材料中的化學元素發生共晶反應的元素作為薄膜的成分元素；

2.2磁控濺射工藝的參數為：濺射功率：100～200W，工作氣壓：3～10mtorr，襯底溫度：200℃～500℃，退火溫度：400℃～800℃；

3.3納米薄膜的顆粒度為10～100nm，納米薄膜的厚度為0.05μm～2μm，

⑶將覆有納米薄膜的兩個待焊工件的表面對接好放入真空擴散爐內，對兩個待焊工件的對接表面施加10～30MPa的壓力，對爐內抽真空至2.0×10^-3～4.0×10^-3Pa時，以10℃/min的升溫速率對爐內進行加熱，升溫至1050℃～1250℃并保溫1～3h進行擴散焊連接，該過程中，調整并保持對兩個待焊工件對接表面施加的壓力恒定；

⑷擴散焊連接結束后，連接工件隨爐冷卻降溫至150℃時卸載對接表面上的壓力，然后降溫至室溫后取出。

2.根據權利要求1所述的Nb-Si系金屬間化合物高溫結構材料的擴散焊方法，其特征在于：用于制備納米薄膜的成分元素為Ni。