[發明專利]一種六方氮化硼的合成方法在審
| 申請號: | 201410773464.6 | 申請日: | 2014-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN104528669A | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發明(設計)人: | 梁海;劉連茹;宋寶田;張磊;楊錄新;張洪秀;蘇暢;呂德斌 | 申請(專利權)人: | 營口天元化工研究所股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B21/064 | 分類號: | C01B21/064 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人: | 張宇晨 |
| 地址: | 115000 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氮化 合成 方法 | ||
技術領域
本發明公開了一種合成六方氮化硼的方法,具體是無水硼砂和三聚氰胺為原料、以隧道窯為生產設備連續合成六方氮化硼的方法。
技術背景
六方氮化硼由于其晶型與石墨類似又呈白色粉末被稱為白石墨,高溫條件下性能明顯優于石墨,是一種新型的無機材料,具有較好的物理、化學性能,可用作脫模劑、高溫潤滑劑、復合陶瓷材料添加劑,同時氮化硼也是制備立方氮化硼的重要原料。隨著氮化硼材料應用領域的不斷拓展及需求量不斷擴大,高質量、低成本、低能耗的合成路線成為科技人員研究的方向。
目前,氮化硼的生產方法有:氯化銨-無水硼砂法,硼砂-尿素法,硼酸-三聚氰胺法等,這些方法均存在著結晶差,空氣污染比較嚴重,而且這些傳統的方法都需要采用間歇性高溫合成路線,在物料合成過程中采用的設備是高溫爐或管式爐,在合成終止后停爐降溫。因此造成生產能耗大、成本高,且傳統的合成方法還需采用氨氣或惰性氣體進行保護,對生產設備具有一定的限制。還有目前最為先進的一步法合成六方氮化硼,是將硼砂與三聚氰酰胺在惰性氣體氛圍下,于1100-2200℃下合成,再用稀礦物酸洗滌,直到洗滌液達到PH≤1,再用水洗滌至洗水為PH5~7.此方法亦為間歇法,同樣存在著耗能高和惰性氣體對設備約束的問題。
發明內容
針對上述情況,本發明的目的是提供一種以無水硼砂和三聚氰胺為原料,以隧道窯為設備,空氣氛圍下,在煅燒窯中進行連續反應的合成路線,得到了高純度六方氮化硼,降低生產成本。
為達到上述目的,本發明所采用的技術方案是:
1、技術配方
成分??????????規格??????重量比
無水硼砂??????工業級????0.7-1.5
三聚氰胺??????工業級????1
2、制備方法
2-1?物料混合:
按配方給出的比例,將兩種原料混合,混合攪拌時間為2-5小時。
2-2?壓制成型:
混合后的物料在壓塊機中壓制成型,后將成型物料放入石墨坩堝中。
2-3?合成:
在空氣氛圍下,將石墨坩堝放入溫度為700-1300℃隧道窯頭端,每隔20分鐘推入一個石墨坩堝,每個石墨坩堝在隧道窯中反應的時間為6-10小時。
2-4?后處理:
將反應后的物料放入粉碎機中進行粉碎后,將物料投入反應釜內加入濃度為3-10%鹽酸,在20-100℃下攪拌2小時。再用去離子水洗滌2-5次,烘干后得到蓬松的白色粉末。經檢測,氮化硼含量>99%,游離硼<0.5%。
3、設備
產品合成所采用的設備為隧道窯。
本發明方法簡單,易于實施。以無水硼砂和三聚氰胺為原料,采用普通的隧道窯為生產設備,進行連續化合成產品。煅燒溫度大大低于現有合成方法,且不需要簡間歇性高溫合成,使生產成本大幅度降低。也不須要采取惰性氣體保護。由于合成是在空氣氛圍下進行,對設備無任何要求和限制。且合成的產品質量穩定,品味高,純度可達到95%以上。解決了現有生產方法存在的問題。
化學反應方程式為:
3NaB4O7+2C3N3(NH2)3→12BN+3Na2O+6CO2+6H2O
本發明無附圖
具體實施方式
下面結合實施例對本發明作進一步說明
實施例1
將90公斤無水硼砂和100公斤三聚氰胺投入臥式混料機中混合4小時,混合后在壓塊機中進行壓塊,成型后放入石墨坩堝中,并將石墨坩堝推進空氣氛圍下的隧道窯中進行煅燒,每隔20分鐘推入一個石墨坩堝,石墨坩堝為方形,內徑為300mm。煅燒后的物料中粉碎機中進行粉碎,將粉碎后的物料投入搪瓷反應釜內,并加入5%、300公斤鹽酸溶液常溫下進行洗滌,再用去離子水洗滌4次后烘干得到白色蓬松粉末。
實施例2
將100公斤無水硼砂和100公斤三聚氰胺投入臥式混料機中混合4小時,混合后在壓塊機中進行壓塊,成型后放入石墨坩堝中,并將石墨坩堝推進空氣氛圍下的隧道窯中進行煅燒,每隔20分鐘推入一個石墨坩堝,煅燒后的物料中粉碎機中進行粉碎,將粉碎后的物料投入搪瓷反應釜內,并加入5%、300公斤鹽酸溶液在常溫下進行洗滌,再用去離子水洗滌3次后,烘干得到白色蓬松粉末。
實施例3
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