[發明專利]模涂器及涂布膜的制造方法

在審

• 申請號: 201410769220.0
• 申請日: 2014-12-12
• 公開（公告）號: CN104707757A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 國安諭司;池山裕介
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;G02B1/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王靈菇;白麗

技術領域

本發明涉及用于在連續的基材上形成涂膜的模涂器及涂布膜的制造方法，其涉及與涂膜寬度方向的膜厚分布的改善有關的技術。

背景技術

在光學元件、液晶顯示器或有機EL(Electro?Luminescence，電致發光)顯示器等顯示裝置、半導體裝置、薄膜太陽能電池等各種裝置中，作為空氣阻擋膜、保護膜、光學補償膜或防反射膜等，利用在基材上形成有涂膜的涂布膜。

作為在基材上形成涂膜的方法，已知使用模涂器的方法。模涂器具有帶有歧管和與歧管相連通的狹縫的模具模塊(die?block)。為了劃定形成于基材上的涂膜的寬度，在模涂器的狹縫兩端插入間隔物。通過間隔物之間的距離調整狹縫的寬度。形成有涂膜的基材被連續地搬送并卷繞在支撐輥上。在模涂器的狹縫前端與所搬送的基材之間，形成由狹縫噴吐的涂布液的液珠、介由該液珠在基材上形成涂膜。為了使涂布液的液珠穩定，將模涂器的上游側維持于減壓狀態。

涂膜的膜厚通過模涂器的狹縫的空隙劃定。但是，即便使狹縫為均一的空隙，與涂膜的中央附近相比，在涂膜寬度方向的端部處仍有膜厚增厚的問題。已提出了用于改善這種問題的方案。

專利文獻1公開了在滑珠涂布裝置中，利用涂布液流出限制構件將流出寬度從型腔的下部至上部擴展成圓弧狀、從狹縫內的下部到上部地擴大流出寬度。另外，專利文獻2公開了在模涂器中從具有噴吐溝的金屬口涂布糊劑時，噴吐溝朝向噴吐溝前端地向外擴展。由此，糊劑涂布層的端部不會鼓起，可以整個面地形成均一高度的糊劑涂布層。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平5-096223號公報

專利文獻2：日本特開2000-260310號公報

發明內容

發明欲解決的技術問題

但是，專利文獻1及專利文獻2的目的在于抑制涂膜寬度方向的端部處的膜厚增厚，但其效果并不充分。另外可知該方法中無法作為產品使用的端部變寬。

本發明鑒于上述事實而完成，其目的在于提供能夠抑制涂膜寬度方向的膜厚分布的模涂器及涂布膜的制造方法。

用于解決技術問題的方法

本實施方式的模涂器具備模具模塊主體以及間隔物，所述模具模塊主體具有歧管和與歧管相連通并噴吐涂布液的狹縫，所述間隔物分別配置于狹縫寬度方向的兩端部并對涂布液的流路寬度進行劃定；其中，間隔物具有從狹縫的涂布液供給側朝向噴吐側并劃定一定寬度的流路的第一面、與第一面連續地連接并劃定比一定寬度更寬的流路的第二面、和與第二面連續地連接并構成前端面的第三面；在間隔物的俯視圖中，當將第一面的假想延長線與第三面的假想延長線的交點作為基準交點、將第一面與第二面的交點作為第一交點并將第二面與第三面的交點作為第二交點時，相比較于連接基準交點、第一交點和第二交點而構成的假想三角形的面積，由連接第一交點與基準交點的直線、連接基準交點與第二交點的直線及沿著第二面的連續線圍成的缺失區域的面積更大。

另一實施方式的涂布膜的制造方法具有以下工序：

準備模涂器的工序，所述模涂器具備模具模塊主體以及間隔物，所述模具模塊主體具有歧管和與歧管相連通并噴吐涂布液的狹縫，所述間隔物分別配置于狹縫寬度方向的兩端部并對涂布液的流路寬度進行劃定；其中，間隔物具有從狹縫的涂布液供給側朝向噴吐側并劃定一定寬度的流路的第一面、與第一面連續地連接并劃定比一定寬度更寬的流路的第二面、和與第二面連續地連接并構成前端面的第三面；在間隔物的俯視圖中，當將第一面的假想延長線與第三面的假想延長線的交點作為基準交點、將第一面與第二面的交點作為第一交點并將第二面與第三面的交點作為第二交點時，相比較于連接基準交點、第一交點和第二交點而構成的假想三角形的面積，由連接第一交點與基準交點的直線、連接基準交點與第二交點的直線及沿著第二面的連續線圍成的缺失區域的面積更大；

搬送連續的基材的工序；和

在基材上形成涂膜的工序，在該工序中，通過對模涂器的上游側從大氣壓進行減壓并維持減壓狀態，從模涂器噴吐涂布液，從而在基材上形成涂膜。

優選相比較于基準交點與第一交點的距離，基準交點與第二交點的距離更長。

發明效果

通過本發明的涂布裝置及涂布膜的制造方法，能夠抑制涂膜寬度方向的膜厚分布。

附圖說明

圖1為包含模涂器的涂布系統的概略構成圖。

圖2為模涂器的立體圖。

圖3為對置的間隔物的立體圖。

圖4為間隔物的俯視圖。