[發明專利]勻光結構及勻光系統有效
| 申請號: | 201410767573.7 | 申請日: | 2014-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN105739101B | 公開(公告)日: | 2020-02-28 |
| 發明(設計)人: | 楊佳翼;胡飛;謝頌婷 | 申請(專利權)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02B3/00;G02B5/04 |
| 代理公司: | 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 王仲凱 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 結構 系統 | ||
1.一種勻光結構,其特征在于,包括:
勻光基板,所述勻光基板包括基板本體,和位于所述基板本體任意一表面的第一圖案結構,所述第一圖案結構包括多個微結構,用于對照射到其表面的入射光束進行勻光;
以及,位于所述勻光基板任意一表面一側的反射層,且所述反射層的反射面朝向所述勻光基板,其中,所述入射光的部分光線被所述勻光基板未設置所述反射層一側表面反射為第一反射光束,及所述入射光的另一部分光線被所述反射層反射為第二反射光束,所述第一反射光束和所述第二反射光束為所述勻光結構的出光,進而所述勻光結構將高斯分布的所述入射光束,整形為平頂分布光束。
2.根據權利要求1所述的勻光結構,其特征在于,所述反射層位于所述基板本體背離所述第一圖案結構一側,將該一側出光部分全部覆蓋。
3.根據權利要求1所述的勻光結構,其特征在于,所述勻光基板還包括:第二圖案結構;
其中,所述第二圖案結構位于所述基板本體背離所述第一圖案結構的表面。
4.根據權利要求1或3所述的勻光結構,其特征在于,所述反射層位于所述勻光基板具有所述第一圖案結構的表面一側,其中,所述勻光結構還包括:
透明介質層,所述透明介質層位于所述第一圖案結構與所述反射層之間,且所述透明介質層朝向所述反射層一側表面為平面。
5.根據權利要求4所述的勻光結構,其特征在于,所述透明介質層為透明膠水層。
6.根據權利要求5所述的勻光結構,其特征在于,所述勻光結構還包括:透明基板,且所述透明基板位于所述透明膠水層與所述反射層之間。
7.根據權利要求3所述的勻光結構,其特征在于,所述第一圖案結構為多個微透鏡組成的微透鏡陣列結構;
和/或,所述第二圖案結構為多個微透鏡組成的微透鏡陣列結構。
8.根據權利要求3所述的勻光結構,其特征在于,所述第一圖案結構為多個鋸齒組成的鋸齒陣列結構;
和/或,所述第二圖案結構為多個鋸齒組成的鋸齒陣列結構。
9.根據權利要求3所述的勻光結構,其特征在于,所述第一圖案結構為多個臺階組成的階梯結構;
和/或,所述第二圖案結構為多個臺階組成的階梯結構。
10.一種勻光系統,其特征在于,包括:
光源,用于發出入射光束;
以及,如權利要求1~9任意一項所述的勻光結構,所述勻光結構用于對所述入射光束進行勻光。
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