[發明專利]曝光顯影方法和系統、曝光控制系統

有效

• 申請號: 201410766896.4
• 申請日: 2014-12-12
• 公開（公告）號: CN104391431A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發明（設計）人: 余學權;徐先華;劉志;王志強;張偉;成學佩
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種曝光顯影方法和系統、曝光控制系統。

背景技術

彩膜基板的生產工藝一般涉及到兩次曝光，一次曝光用于形成黑矩陣，二次曝光用于形成各個子像素對應的濾光層以及隔墊物。現有技術一般采用與基板的尺寸一致(或大于基板尺寸)的掩膜板采用雙標記對位的方式對基板進行曝光，而一個基板的生產線一旦確定，掩膜板的尺寸一般也是固定的，為了生產更大尺寸的彩膜基板只能更換生產線，生產成本較高。

發明內容

本發明的目的是提供一種能夠在基板尺寸大于掩膜板尺寸時對基板進行曝光顯影的方法和系統。

為了達到上述目的，本發明提供了一種曝光顯影方法，該方法用于在基板尺寸大于掩膜板尺寸時對基板的曝光顯影，所述方法包括：

利用所述掩膜板分別對基板多個不同區域進行曝光顯影，所述多個不同區域拼接為全部需要曝光顯影的區域。

進一步的，所述多個不同區域中的每一個區域均與所述基板的邊緣相鄰，且在與該區域相鄰的基板的邊緣制作有對應于該區域的基板對位標記，所述的基板對位標記與所述掩膜板上對應的掩膜板對位標記相適應；

所述利用所述掩膜板分別對基板多個不同區域進行曝光顯影包括：

步驟S11，根據至少兩個基板對位標記確定所述基板相對于所述掩膜板傾斜的角度，并調整所述基板或者所述掩膜板以補正傾斜的角度；

步驟S12，針對所述多個不同區域中的每一個區域，調整所述基板或者所述掩膜板使所述基板上對應于該區域的基板對位標記與所述掩膜板上對應的掩膜板對位標記對準。

進一步的，所述多個不同區域中的每一個區域均與基板的第一側邊緣或者第二側邊緣相鄰，且在所述基板的第一側邊緣或者第二側邊緣制作有對應與各個區域的基板對位標記；所述掩膜板的第一側邊緣和第二側邊緣制作有對應的掩膜板對位標記；其中，所述基板的第一側和所述掩膜板的第一側對應，所述基板的第二側和所述掩膜板的第二側對應，第一側和第二側為相對的兩側；

所述步驟S12包括：

對于所述多個不同區域中與基板的第一側邊緣相鄰的區域，調整所述基板或者所述掩膜板將該區域對應的基板對位標記與所述掩膜板第一側的掩膜板對位標記對準；對于與基板的第二側邊緣相鄰的區域，調整所述基板或者所述掩膜板將該區域對應的基板對位標記與所述掩膜板第二側的掩膜板對位標記對準。

進一步的，步驟S12中將基板對位標記與掩膜板對位標記對準包括：

將基板對位標記的中心和掩膜板對位標記的中心對準。

進一步的，所述基板為制作有黑矩陣的基板，所述黑矩陣限定了形成子像素的開口部圖形；

所述步驟S12之后，所述步驟S1還包括：

步驟S13，對于所述多個不同區域中與基板的第一側邊緣相鄰的區域，識別所述掩膜板第二側的掩膜板對位標記所對應的開口部圖形，并將位于所述掩膜板第二側邊緣的掩膜板對位標記的中心與所對應的開口部圖形的中心對準；對于所述多個不同區域中與基板的第二側邊緣相鄰的區域，識別位于所述掩膜板第一側邊緣的掩膜板對位標記所對應的開口部圖形，并將位于所述掩膜板第一側邊緣的掩膜板對位標記的中心與所對應的開口部圖形的中心對準。

進一步的，所述步驟S13中識別掩膜板對位標記所對應的開口部圖形，包括：

根據預先存儲的開口部圖形識別掩膜板對位標記的中心所落入的開口部圖形。

進一步的，所述掩膜板對位標記包括一子圖形，所述子圖形為“田”字形，該“田”字形子圖形中十字的交點為掩膜板對位標記的中心，且所述“田”字形子圖形大小與開口部圖形的大小一致；

所述步驟S13中識別掩膜板對位標記所對應的開口部圖形，包括：

識別掩膜板對位標記的“田”字形子圖形中十字的交點所對應的開口部圖形；

所述步驟S13中將掩膜板對位標記的中心與所對應的開口部圖形的中心對準包括：

將掩膜板對位標記的“田”字形子圖形與所對應的開口部圖形對準。

本發明還提供了一種曝光控制系統，包括：

控制模塊，用于在需要曝光顯影的基板尺寸大于掩膜板尺寸時，調整掩膜板和基板的相對位置，使掩膜板分別對基板多個不同區域進行曝光顯影，所述多個不同區域拼接為全部需要曝光顯影的區域。

進一步的，所述控制模塊具體包括：

圖像識別子模塊，用于獲取包含有基板標記和掩膜板標記的圖像，并根據獲取到的圖像識別所述基板上的基板對位標記和所述掩膜板上的掩膜板對位標記；