[發(fā)明專利]一種共聚焦顯微鏡中光譜狹縫的控制方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410766187.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104502316A | 公開(公告)日: | 2015-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃維;張運(yùn)海 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G02B21/00 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11369 | 代理人: | 史霞 |
| 地址: | 215163江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 聚焦 顯微鏡 光譜 狹縫 控制 方法 | ||
1.一種共聚焦顯微鏡中光譜狹縫的控制方法,它通過單個(gè)控制器同時(shí)控制兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)來分別驅(qū)動(dòng)兩個(gè)不透光的狹縫縫片在導(dǎo)軌上滑動(dòng),并通過改變所述兩個(gè)狹縫縫片之間的距離,使得所述兩個(gè)狹縫縫片之間形成一個(gè)光譜狹縫,通過改變兩個(gè)光譜狹縫縫片位置,使得該光譜狹縫只允許某個(gè)特定波段的光穿過,其他波段的光被遮擋住;包括以下步驟:
步驟一)在所述導(dǎo)軌上對(duì)每個(gè)狹縫縫片設(shè)立一個(gè)初始位置,即復(fù)位位置;其用于使所述步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述狹縫縫片回到該初始位置時(shí),能夠消除步進(jìn)電機(jī)的行程誤差;
步驟二)設(shè)定每個(gè)狹縫縫片分別需要達(dá)到的目標(biāo)位置為各自的指令位置;每個(gè)狹縫縫片當(dāng)前所在位置為各自的當(dāng)前位置;每個(gè)狹縫縫片從各自的初始位置運(yùn)動(dòng)到各自的指令位置,步進(jìn)電機(jī)所需運(yùn)動(dòng)的步數(shù)為指令位置步數(shù);狹縫縫片從初始位置運(yùn)動(dòng)到當(dāng)前位置步進(jìn)電機(jī)所需運(yùn)動(dòng)的步數(shù)為當(dāng)前位置步數(shù);
步驟三)所述控制器判斷狹縫縫片的當(dāng)前位置步數(shù)與指令位置步數(shù)的大小關(guān)系,并根據(jù)該大小關(guān)系作出如下操作:
a)若只有一個(gè)狹縫縫片的指令位置步數(shù)小于它的當(dāng)前位置步數(shù),則該狹縫縫片先被驅(qū)動(dòng)至初始位置,再被驅(qū)動(dòng)至指令位置,同時(shí)另一個(gè)狹縫縫片直接被驅(qū)動(dòng)至指令位置;
b)若兩個(gè)狹縫縫片的指令位置步數(shù)都大于各自的當(dāng)前位置步數(shù),則兩個(gè)狹縫縫片同時(shí)被直接驅(qū)動(dòng)至指令位置;
c)若兩個(gè)狹縫縫片的指令位置步數(shù)都小于各自的當(dāng)前位置步數(shù),則兩個(gè)狹縫縫片同時(shí)被驅(qū)動(dòng),運(yùn)動(dòng)至各自的初始位置,再被驅(qū)動(dòng)至指令位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共聚焦顯微鏡中光譜狹縫的控制方法,其特征在于,所述的狹縫縫片被驅(qū)動(dòng)至初始位置的具體過程為:狹縫縫片先被步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)向復(fù)位方向運(yùn)動(dòng),待狹縫縫片達(dá)到初始位置后繼續(xù)被步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)往該方向運(yùn)動(dòng)若干步;之后步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)狹縫縫片反向運(yùn)動(dòng)至初始位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共聚焦顯微鏡中光譜狹縫的控制方法,其特征在于,該方法可以在一個(gè)控制器的控制下同時(shí)對(duì)多個(gè)驅(qū)動(dòng)狹縫縫片的步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行控制。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的共聚焦顯微鏡中光譜狹縫的控制方法,其特征在于,所述的狹縫縫片到達(dá)初始位置是通過光電開關(guān)判斷的;當(dāng)狹縫縫片到達(dá)初始位置時(shí),狹縫縫片外掛的擋板遮住光電開關(guān)中的紅外光線,光電開關(guān)由低電平狀態(tài)變成高電平狀態(tài);當(dāng)狹縫縫片離開初始位置時(shí),狹縫縫片外掛的擋板不遮住光電開關(guān)中的紅外光線,光電開關(guān)為低電平狀態(tài)。
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