[發明專利]一種規整填料塔嵌入式壁流再分布器

有效

• 申請號: 201410748879.8
• 申請日: 2014-12-09
• 公開（公告）號: CN104383872A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發明（設計）人: 徐義明;劉輝;黃益平;李旭東;孫玉玉;陸曉詠;劉春江
• 申請（專利權）人: 中建安裝工程有限公司;天津大學
• 主分類號: B01J19/32
• 分類號: B01J19/32
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 王麗

1.一種規整填料塔嵌入式壁流再分布器，其特征在于它包括壁流導流片(1)，外圈液槽(2)，外圈導流管(3)，中間液槽(4)，內圈導流管(5)和內圈液槽(6)；壁流導流片(1)，外圈液槽(2)，中間液槽(3)和內圈液槽(4)均為圓環型，且同軸心，且底面高度依次降低，外圈導流管(3)和內圈導流管(5)兩端分別連接于兩側的液槽，導流管的中心線與任何一個液槽的直徑及其直線延長線均不重合。

2.如權利要求1所述再分布器，其特征在于中間液槽為一層或多層。

3.如權利要求1所述再分布器，其特征在于每層導流管數量為2個以上的偶數，相鄰導流管之間的角度相同。

4.如權利要求1所述再分布器，其特征在于外圈液槽(2)側壁面，中間液槽(3)和內圈液槽(4)內外兩側壁面有開孔。

5.如權利要求1所述再分布器，其特征在于外圈液槽2與中間液槽4的直徑比大于等于1。

6.如權利要求1所述再分布器，其特征在于中間液槽(4)與內圈液槽(6)的直徑比大于等于1。

7.如權利要求1所述再分布器，其特征在于上述外圈液槽2的底面高度與中間液槽(4)的頂面高度差大于等于5mm，中間液槽4的底面高度與內圈液槽(6)的頂面高度高度差大于等于5mm。

8.如權利要求1所述再分布器安裝方法,其特征是:在填料塔塔底安放好規整填料(9)；在規整填料(9)的空腔B底面中心上，放置內圈液槽(6)及其導流管(5)，內圈液槽(6)的底面與空腔B的底面水平；將中間液槽(4)及其導流管(3)放置于規整填料(9)的空腔A內，中間液槽(4)的底面與空腔A的底面水平；將外圈液槽2放置于規整填料(9)的頂端，外圈液槽(2)的底面與規整填料(9)的頂端水平；將壁流導流片焊接于塔壁內側。