[發明專利]一種四氧化三鈷介孔納米片的制備方法有效
| 申請號： | 201410741019.1 | 申請日： | 2015-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN104478006B | 公開（公告）日： | 2017-01-25 |
| 發明（設計）人： | 胡秀蘭;黃惠洪 | 申請（專利權）人： | 南京工業大學 |
| 主分類號： | C01G51/04 | 分類號： | C01G51/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京金智普華知識產權代理有限公司11401 | 代理人： | 于永進 |
| 地址： | 210009 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氧化 三鈷介孔 納米 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種Co3O4介孔納米片的制備方法，包括以下步驟：
1)前驅體的制備
配置硝酸鈷和環六亞甲基四胺(C6H12N4)的混合溶液，然后將溶液置于可密閉容器中，溶液占容器容積的70-80％；將密閉后的容器放入烘箱中，在100-180℃靜置反應2-24小時，反應結束后，經冷卻、過濾、清洗、干燥得到紫紅色的前驅體粉體；
2)Co3O4介孔納米片的制備
將步驟1)制得的前驅體粉體在150-600℃熱處理0.5-8小時，得到Co3O4介孔納米片。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：混合溶液的溶劑是水、醇(如，乙醇)或水/醇混合溶劑。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：混合溶液中，Co2+的濃度為0.001-0.5mol/L，優選0.05-0.2mol/L。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：混合溶液中，硝酸鈷與環六亞甲基四胺的摩爾比為0.05-3:1，優選0.2-0.8:1。
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