[發(fā)明專利]涂覆方法、涂覆系統(tǒng)和涂覆制品

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410738287.8
• 申請(qǐng)日: 2014-12-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104694867A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林德超;D.V.布奇;S.C.科蒂林加姆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號(hào): C23C4/12
• 分類號(hào): C23C4/12
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴(yán)志軍;譚祐祥

1.一種涂覆方法，包括：

設(shè)置基片；

將涂覆材料朝向所述基片引導(dǎo)，所述涂覆材料接觸所述基片的涂覆區(qū)域以形成涂覆沉積物；

設(shè)置能量源；以及

將所述能量源朝向所述涂覆區(qū)域的第一外圍邊緣部分和第二外圍邊緣部分引導(dǎo)；

其中，所述能量源的引導(dǎo)與所述涂覆材料的引導(dǎo)同時(shí)發(fā)生。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，將所述涂覆材料朝向所述基片引導(dǎo)還包括熱噴涂所述涂覆材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂覆方法，其特征在于，熱噴涂所述涂覆材料還包括冷噴涂所述涂覆材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，設(shè)置所述能量源還包括：

從由聚焦的高能束、散焦的高能束、和激光束組成的組中選擇所述能量源；

其中所述激光束選自由二極管激光、CO₂激光、纖維激光、和盤形激光組成的組。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆方法，其特征在于，所述激光束的激光能包括處于0.5kw至6kw之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆方法，其特征在于，所述激光束的束寬包括處于0.1mm至5mm之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法還包括引導(dǎo)所述激光源以增大所述涂覆沉積物的密度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法包括使所述第一外圍邊緣部分和所述第二外圍邊緣部分與所述能量源相接觸。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法還包括在不熔化所述涂覆材料的情況下加熱所述涂覆材料。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，設(shè)置所述能量源還包括設(shè)置第一能量源和第二能量源。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法還包括調(diào)節(jié)所述第一能量源與所述第二能量源之間的間距以控制所述涂覆沉積物的寬度。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法包括使所述第一外圍邊緣部分與所述第一能量源相接觸，并使所述第二外圍邊緣部分與所述第二能量源相接觸。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆方法包括與不利用所述能量源的所述涂覆方法相比，降低所述涂覆材料接觸所述涂覆區(qū)域的速度。

14.一種涂覆系統(tǒng)，包括：

基片；

朝向所述基片引導(dǎo)的熱噴涂噴嘴；和

朝向所述基片引導(dǎo)的能量源；

其中，所述能量源構(gòu)造成僅接觸所述基片的涂覆區(qū)域的第一外圍邊緣部分和第二外圍邊緣部分。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述熱噴涂噴嘴包括冷噴涂噴嘴。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述能量源包括第一能量源和第二能量源。

17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述第一外圍邊緣部分和所述第二外圍邊緣部分包括所述涂覆區(qū)域的高達(dá)40％。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的涂覆系統(tǒng)，其特征在于，第一外圍邊緣部分尺寸與第二外圍邊緣部分尺寸相等。

19.一種涂覆制品，包括：

基片；和

位于所述基片上的均勻的熱噴涂涂層；

其中，所述熱噴涂涂層在所有覆蓋位置處機(jī)械地結(jié)合至所述基片而不具有缺陷。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的涂覆制品，其特征在于，所述均勻的熱噴涂涂層是均勻的冷噴涂涂層。