[發(fā)明專利]顯示基板及其制作方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410738202.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104391391A | 公開(公告)日: | 2015-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋萍;李小和;李紅敏;薛偉;董職福;邵賢杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/133 | 分類號(hào): | G02F1/133;G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
薄膜晶體管液晶顯示器(Thin?Film?Transistor?Liquid?Crystal?Display,TFT-LCD)由液晶顯示面板、驅(qū)動(dòng)電路以及背光源等組成。液晶顯示面板是TFT-LCD的重要部分,其包括陣列基板、彩膜基板以及中間的液晶層三大部分,液晶層的兩側(cè)形成有配向膜,其通過成盒工藝前在陣列基板和彩膜基板上進(jìn)行配向膜(PI)印刷以及配向處理形成。
目前,印刷后的配向膜通常是通過摩擦工藝(Rubbing)進(jìn)行配向,通過摩擦工藝使配向膜對(duì)液晶分子具有配向控制力,保證液晶分子能夠沿著正確的方向排列,并形成一定的預(yù)傾角,常用的配向處理如圖1所示,利用滾筒200外側(cè)的摩擦布100,根據(jù)力學(xué)原理摩擦基板400上的配向膜300,然而,在摩擦過程中常常會(huì)造成靜電的產(chǎn)生,其產(chǎn)生的靜電會(huì)導(dǎo)致基板400上與配線相關(guān)的TFT開關(guān)失效或者使數(shù)據(jù)線與掃描線交叉處的絕緣膜擊穿造成數(shù)據(jù)線和掃描線短路,從而造成不良。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置,能夠有效避免摩擦工藝中靜電對(duì)顯示基板造成的不良影響。
(二)技術(shù)方案
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種顯示基板,包括襯底基板以及形成在所述襯底基板上的配向膜,其中,所述襯底基板與所述配向膜之間還形成有用于疏散靜電的導(dǎo)電圖形。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)電圖形為閉合回路結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地,所述襯底基板上形成有多個(gè)顯示單元,所述導(dǎo)電圖形形成在所述襯底基板上所述多個(gè)顯示單元之外的區(qū)域。
進(jìn)一步地,所述襯底基板上還依次形成有柵極的圖形、柵極絕緣層的圖形、有源層、源漏極的圖形、像素電極的圖形以及保護(hù)層,所述導(dǎo)電圖形形成在所述保護(hù)層上,所述配向膜形成在所述導(dǎo)電圖形上。
進(jìn)一步地,還包括形成在所述保護(hù)層上的公共電極的圖形,所述公共電極與所述導(dǎo)電圖形為相同材料且在一次構(gòu)圖工藝中形成。
進(jìn)一步地,所述襯底基板上還依次形成有黑矩陣的圖形、彩色濾光層的圖形以及保護(hù)層,所述導(dǎo)電圖形形成在所述保護(hù)層上,所述配向膜形成在所述導(dǎo)電圖形上。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明還提供了一種顯示裝置,包括上述任一的顯示基板。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明還提供了一種顯示基板的制作方法,包括:
在襯底基板上形成用于疏散靜電的導(dǎo)電圖形;
在所述襯底基板上形成配向膜。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)電圖形為閉合回路結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地,所述襯底基板上形成有多個(gè)顯示單元,所述導(dǎo)電圖形形成在所述襯底基板上所述多個(gè)顯示單元之外的區(qū)域。
進(jìn)一步地,在襯底基板上形成用于疏散靜電的導(dǎo)電圖形之前還包括:
在所述襯底基板上依次形成柵極的圖形、柵極絕緣層的圖形、有源層、源漏極的圖形、像素電極的圖形以及保護(hù)層。
進(jìn)一步地,在襯底基板上形成用于疏散靜電的導(dǎo)電圖形包括;
在所述保護(hù)層上形成透明金屬薄膜;
對(duì)所述透明金屬薄膜進(jìn)行圖案化處理,在所述保護(hù)層的第一區(qū)域上形成公共電極的圖形,在所述保護(hù)層的第二區(qū)域上形成所述導(dǎo)電圖形。
進(jìn)一步地,在襯底基板上形成用于疏散靜電的導(dǎo)電圖形之前還包括:
在所述襯底基板上依次形成黑矩陣的圖形、彩色濾光層的圖形以及保護(hù)層。
(三)有益效果
本發(fā)明通過在襯底基板與配向膜之間設(shè)置導(dǎo)電圖形,當(dāng)采用摩擦工藝對(duì)配向膜進(jìn)行配向時(shí),在摩擦工藝產(chǎn)生的靜電可通過該導(dǎo)電圖形迅速疏散掉,從而能夠有效避免靜電對(duì)顯示基板造成的不良影響。
附圖說(shuō)明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中采用摩擦工藝對(duì)配向膜進(jìn)行配向處理的示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種顯示基板的示意圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施方式提供的另一種顯示基板的示意圖;
圖4是本發(fā)明實(shí)施方式提供的又一種顯示基板的示意圖;
圖5是本發(fā)明實(shí)施方式提供的再一種顯示基板的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明,但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410738202.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種改善液晶屏高溫顯示效果的裝置及方法
- 下一篇:紅外窗透鏡組件
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





