[發(fā)明專利]復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410736996.2
• 申請(qǐng)日: 2014-12-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105718099B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許毅中;徐國(guó)書;張春勇;吳宇川;黃邦熊;陳炳輝;賈瑞禹;楊河波;張羽;葉惠林;鄭益良;黃仕游
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宸鴻科技（廈門）有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括：

第一蓋板，具有相對(duì)的上表面、下表面及介于所述上表面與下表面之間的外側(cè)面；

第二蓋板，具有相對(duì)的上表面、下表面及介于所述上表面與下表面之間的外側(cè)面，所述第二蓋板還具有一開(kāi)口；

第一接合層，位于所述第一蓋板的下表面與所述第二蓋板上表面之間，其中所述第一接合層是離子結(jié)合層，使所述第一蓋板與所述第二蓋板之間形成鍵結(jié)而鍵合；

一指紋識(shí)別模塊，設(shè)置于所述第二蓋板的開(kāi)口內(nèi)，及

一類鉆碳層，設(shè)置于所述第一蓋板上；

其中，所述第一蓋板以及所述第二蓋板的厚度均小于等于0.3毫米。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述開(kāi)口為自所述第二蓋板的上表面至下表面形成的一通孔或自所述第二蓋板的外側(cè)面向內(nèi)形成的一凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第一接合層在所述第二蓋板的開(kāi)口與所述第一蓋板之間具有一讓位口，所述復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)還包括一第二接合層，設(shè)置于所述讓位口內(nèi)，且還位于所述指紋識(shí)別模塊與所述第一蓋板之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：還包括一固定結(jié)構(gòu)，位于所述指紋識(shí)別模塊與所述第二蓋板之間，以將所述指紋識(shí)別模塊固定于所述第二蓋板的開(kāi)口中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：還包括一遮蔽層，設(shè)置于所述第一蓋板的下表面，且在所述第一蓋板上的垂直投影至少覆蓋所述指紋識(shí)別模塊在所述第一蓋板上的垂直投影。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：還包括一屏蔽結(jié)構(gòu)位于所述第一蓋板與所述第二蓋板之間，且環(huán)繞于所述指紋識(shí)別模塊的周圍。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：其中所述類鉆碳層的厚度小于等于15nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述類鉆碳層的sp3鍵含量大于等于15％且小于等于30％。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括一疏水性層，所述疏水性層設(shè)置于所述類鉆碳層相對(duì)所述第一蓋板的另一側(cè)面上。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述疏水性層中疏水性原子含量百分比大于50％。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述疏水性層相對(duì)于所述類鉆碳層的另一側(cè)具有一接觸角，所述接觸角大于110度。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述疏水性層的厚度介于5nm到30nm之間。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括一中間層，所述中間層設(shè)置于所述類鉆碳層與所述疏水性層之間，其中所述中間層為硅碳系材料。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括一附著層，所述附著層設(shè)置于所述第一蓋板與所述類鉆碳層之間，其中所述附著層包括硅系材料。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述附著層的厚度介于5nm到10nm之間。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括一抗反射膜，所述抗反射膜設(shè)置于所述第一蓋板與所述類鉆碳層之間。