[發(fā)明專利]圓錐形頂部的空心微針陣列制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410733926.1
• 申請日: 2014-12-04
• 公開（公告）號: CN104503207B
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發(fā)明（設計）人: 朱軍
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: G03F7/095
• 分類號: G03F7/095;G03F7/16;G03F7/20
• 代理公司: 上海交達專利事務所 31201
• 代理人: 王毓理;王錫麟

1.一種圓錐形頂部的空心微針陣列制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

第一步、選用無光敏劑的SU-8系列光刻膠與含光敏劑SU-8系列光刻膠混合；

第二步、將第一步配好的光刻膠甩膠、前烘得到平整的第一層光刻膠；

第三步、中烘后傾斜旋轉曝光；

第四步、在第一層光刻膠上甩光敏性高于第一層光刻膠的SU-8系列光刻膠，前烘得到平整光刻膠；

第五步、中烘后常規(guī)接觸式曝光；

第六步、顯影；

第七步、激光打孔。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述的傾斜旋轉的角度為小于90度的任意角。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述的前烘是指：90℃下加熱5小時。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述的中烘是指：90℃下加熱2小時。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，當完成第七步激光打孔后，在空心微針陣列的表面進一步通過沉積生物相容性聚對二甲苯薄膜以滿足生物相容性要求。

6.一種圓錐形頂部的空心微針陣列制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

第一步、選用無光敏劑的SU-8系列光刻膠與含光敏劑SU-8系列光刻膠混合；

第二步、將第一步配好的光刻膠甩膠、前烘得到平整的第一層光刻膠；

第三步、中烘后傾斜旋轉曝光；

第四步、選用無光敏劑的SU-8系列光刻膠與含光敏劑SU-8系列光刻膠混合，得到光敏性高于第一層光刻膠的SU-8系列光刻膠，充分攪拌，除盡氣泡后待用；

第五步、將第四步配好的光刻膠甩膠、前烘得到平整的第二層光刻膠；

第六步、中烘后常規(guī)接觸式曝光；

第七步、在第二層光刻膠上甩光敏性高于第二層光刻膠的SU-8系列光刻膠，前烘得到平整光刻膠；

第八步、中烘后常規(guī)接觸式曝光；

第九步、顯影；

第十步、激光打孔。

7.根據(jù)權利要求6所述的方法，其特征是，所述的傾斜旋轉的角度為小于90度的任意角。

8.根據(jù)權利要求6所述的方法，其特征是，所述的前烘是指：90℃下加熱5小時。

9.根據(jù)權利要求6所述的方法，其特征是，所述的中烘是指：90℃下加熱2小時。

10.根據(jù)權利要求6所述的方法，其特征是，當完成第十步激光打孔后，在空心微針陣列的表面進一步通過沉積生物相容性聚對二甲苯薄膜以滿足生物相容性要求。