[發(fā)明專利]6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410733423.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104597538A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王繼平;呂晶;余初旺 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州麥樂克電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/20 | 分類號(hào): | G02B5/20 |
| 代理公司: | 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241 | 代理人: | 周豪靖 |
| 地址: | 311188 浙江省杭州市*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 6000 nm 長(zhǎng)波 通紅 濾光 敏感 元件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及紅外濾光敏感元件領(lǐng)域,尤其是一種6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件。
背景技術(shù)
紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)是通過非接觸探測(cè)紅外能量(熱量),并將其轉(zhuǎn)換為電信號(hào),進(jìn)而在顯示器上生成熱圖像和溫度值,并可以對(duì)溫度值進(jìn)行計(jì)算的一種檢測(cè)設(shè)備。紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)能夠?qū)⑻綔y(cè)到的熱量精確量化或測(cè)量,使您不僅能夠觀察熱圖像,還能夠?qū)Πl(fā)熱的故障區(qū)域進(jìn)行準(zhǔn)確識(shí)別和嚴(yán)格分析。
紅外熱成像儀的探測(cè)器是實(shí)現(xiàn)紅外能量(熱能)轉(zhuǎn)換電信號(hào)的關(guān)鍵,由于各種生物所發(fā)出來的紅外能量(熱能)是不同的,所以在日常使用中為了觀察某種特定生物的熱圖像,人們往往會(huì)在探測(cè)器中添加紅外濾光敏感元件,通過紅外濾光敏感元件可以使探測(cè)器只接受特定波段的紅外能量(熱能),保證紅外熱成像儀的成像結(jié)果。
但是,目前的紅外濾光敏感元件,其信噪比低,精度差,不能滿足市場(chǎng)發(fā)展的需要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決上述技術(shù)的不足而提供一種測(cè)試精度高、能極大提高信噪比的6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明所設(shè)計(jì)的一種6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件,包括以Si為原材料的基板,以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層,且所述基板設(shè)于第一鍍膜層與第二鍍膜層之間,其特征是所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有237nm厚度的Ge層、171nm厚度的ZnS層、119nm厚度的Ge層、107nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、186nm厚度的ZnS層、111nm厚度的Ge層、205nm厚度的ZnS層、85nm厚度的Ge層、205nm厚度的ZnS層、78nm厚度的Ge層、254nm厚度的ZnS層、147nm厚度的Ge層、249nm厚度的ZnS層、105nm厚度的Ge層、169nm厚度的ZnS層、121nm厚度的Ge層、176nm厚度的ZnS層、213nm厚度的Ge層、228nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、285nm厚度的ZnS層、134nm厚度的Ge層、350nm厚度的ZnS層、107nm厚度的Ge層、418nm厚度的ZnS層、128nm厚度的Ge層、273nm厚度的ZnS層、240nm厚度的Ge層、158nm厚度的ZnS層、252nm厚度的Ge層、118nm厚度的ZnS層、294nm厚度的Ge層、1136nm厚度的ZnS層;所述的第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有207nm厚度的Ge層、302nm厚度的ZnS層、248nm厚度的Ge層、372nm厚度的ZnS層、215nm厚度的Ge層、383nm厚度的ZnS層、226nm厚度的Ge層、400nm厚度的ZnS層、212nm厚度的Ge層、445nm厚度的ZnS層、207nm厚度的Ge層、429nm厚度的ZnS層、211nm厚度的Ge層、336nm厚度的ZnS層、255nm厚度的Ge層、502nm厚度的ZnS層、222nm厚度的Ge層、785nm厚度的ZnS層、202nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、402nm厚度的Ge層、322nm厚度的ZnS層、377nm厚度的Ge層、684nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、890nm厚度的ZnS層、293nm厚度的Ge層、408nm厚度的ZnS層、354nm厚度的Ge層、1250nm厚度的ZnS層。
上述各材料對(duì)應(yīng)的厚度,其允許在公差范圍內(nèi)變化,其變化的范圍屬于本專利保護(hù)的范圍,為等同關(guān)系。通常厚度的公差在10nm左右。
本發(fā)明所得到的一種6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件,其在溫度測(cè)量過程中,可大大的提高信噪比,提高測(cè)試精準(zhǔn)度,適合于大范圍的推廣和使用。該濾光敏感元件5%Cut?on=6000±300nm,7500~13500nm,Tavg≥70%,400~5500nm,Tavg≤0.1%,T≤3.0%。
附圖說明
圖1是實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是實(shí)施例提供的紅外光譜透過率實(shí)測(cè)曲線圖。
圖中:第一鍍膜層1、基板2、第二鍍膜層3。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。
實(shí)施例1。
如圖1和圖2所示,本實(shí)施例描述的一種6000nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件,包括以Si為原材料的基板2,以Ge、ZnS為第一鍍膜層1和以Ge、ZnS為第二鍍膜層3,且所述基板2設(shè)于第一鍍膜層1與第二鍍膜層3之間,所述第一鍍膜層1由內(nèi)向外依次排列包含有237nm厚度的Ge層、171nm厚度的ZnS層、119nm厚度的Ge層、107nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、186nm厚度的ZnS層、111nm厚度的Ge層、205nm厚度的ZnS層、85nm厚度的Ge層、205nm厚度的ZnS層、78nm厚度的Ge層、254nm厚度的ZnS層、147nm厚度的Ge層、249nm厚度的ZnS層、105nm厚度的Ge層、169nm厚度的ZnS層、121nm厚度的Ge層、176nm厚度的ZnS層、213nm厚度的Ge層、228nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、285nm厚度的ZnS層、134nm厚度的Ge層、350nm厚度的ZnS層、107nm厚度的Ge層、418nm厚度的ZnS層、128nm厚度的Ge層、273nm厚度的ZnS層、240nm厚度的Ge層、158nm厚度的ZnS層、252nm厚度的Ge層、118nm厚度的ZnS層、294nm厚度的Ge層、1136nm厚度的ZnS層;所述的第二鍍膜層3由內(nèi)向外依次排列包含有207nm厚度的Ge層、302nm厚度的ZnS層、248nm厚度的Ge層、372nm厚度的ZnS層、215nm厚度的Ge層、383nm厚度的ZnS層、226nm厚度的Ge層、400nm厚度的ZnS層、212nm厚度的Ge層、445nm厚度的ZnS層、207nm厚度的Ge層、429nm厚度的ZnS層、211nm厚度的Ge層、336nm厚度的ZnS層、255nm厚度的Ge層、502nm厚度的ZnS層、222nm厚度的Ge層、785nm厚度的ZnS層、202nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、402nm厚度的Ge層、322nm厚度的ZnS層、377nm厚度的Ge層、684nm厚度的ZnS層、161nm厚度的Ge層、890nm厚度的ZnS層、293nm厚度的Ge層、408nm厚度的ZnS層、354nm厚度的Ge層、1250nm厚度的ZnS層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州麥樂克電子科技有限公司,未經(jīng)杭州麥樂克電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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