[發明專利]一種高斯徑向基函數形狀參數的確定方法

在審

• 申請號: 201410727193.0
• 申請日: 2014-12-04
• 公開（公告）號: CN104408024A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發明（設計）人: 王東輝;武澤平;向敏;胡凡;江振宇;彭科;張為華
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: G06F17/15
• 分類號: G06F17/15
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 胡偉華

1.一種高斯徑向基函數形狀參數確定方法，其特征在于，包括以下步驟：

(S1)建立代理模型，采樣獲取n個樣本點x_i，i＝1,2,…,n，并計算每個樣本點的局部密度ρ(x_i)；

(S2)計算每個樣本點的影響體積分數v_i，即：其中，k＝1,2,…,n；

(S3)確定n個樣本點的影響體積的總和V_t；

(S4)計算得到每個樣本點的影響體積V_i，即：V_i＝v_iV_t；

(S5)確定徑向基代理模型的形狀參數c_i，即：

2.如權利要求1所述的一種高斯徑向基函數形狀參數確定方法，其特征在于，所述步驟(S1)中每個樣本點的局部密度計算公式為：

ρ(x)=Σi=1ne-||x-xi||σ2,]]>

其中，σ取值為各個采樣點之間的平均距離。

3.如權利要求1所述的一種高斯徑向基函數形狀參數確定方法，其特征在于，所述步驟(S3)具體過程為：

定義代理模型基本形式為：其中，為基函數，取值為，c_i為形狀參數；

真實模型f(x)的一階、二階矩通過采樣點的估計值為：

E[f(x)]=Σi=1nyiviE[f2(x)]=Σi=1nyi2vi;]]>其中，y_i為樣本點對應的輸出值，即：

r_ik＝||x_i-x_k||，φ_k(r_ik)為基函數，w_i為每個基函數的權系數；

通過求解公式當x值變化，F(V_t)取得最小值時對應的V_t值即為影響體積的總和，其中，E(s(x))為代理模型均值，E(s²(x))為代理模型的二階矩。