[發明專利]金屬掩膜板對位裝置

在審

• 申請號: 201410724843.6
• 申請日: 2014-12-03
• 公開（公告）號: CN105648400A
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 四川虹視顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務所(普通合伙) 51227
• 代理人: 王偉

技術領域

本發明屬于OLED顯示技術領域，具體涉及一種OLED金屬掩膜板對位裝置。

背景技術

在平板顯示技術中，有機發光二極管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)顯示器是 一種通過載流子注入和復合導致有機材料發光的顯示器件。以其輕薄、主動發光、快響應 速度、廣視角、色彩豐富及高亮度、低功耗、耐高低溫等眾多優點而被業界公認為是繼液 晶顯示器(LCD)之后的第三代顯示技術。主動式OLED(ActiveMatrixOLED，AMOLED) 也稱為有源矩陣OLED，AMOLED因通過在每個像素中集成薄膜晶體管(TFT)和電容器 并由電容器維持電壓的方法進行驅動，因而可以實現大尺寸、高分辨率面板，是當前研究 的重點及未來顯示技術的發展方向。隨著近代顯示技術的不斷發展，從LCD到AMOLED， 屏幕技術涉及TFT、NOVA、IPS、ASV、AMOLED以及SuperAMOLED等等，這些技術 主要大都是針對顯示器的分辨率、亮度、對比度、色域、相應速度、可視角、清晰度和能 耗等性能的不斷改進。

AMOLED作為具有較強競爭力的產品，其分辨率也不斷的刷新，這對OLED的研究及 生產過程中的真空蒸鍍技術的要求也越來越高，其中實現掩膜板與基板的對位要求又是生 產過程中的難點與重點，目前現有的蒸鍍設備由于對位系統平臺平坦度、控制精度、MASK 平坦度及材料等因素影響，設備對位精度一般為±3～5um，并且在量產過程中的多次對位容 易導致對位不良，直接影響生產效率與良率水平。

發明內容

本發明的目的是為了解決現有的OLED金屬掩膜板對位裝置對位精度不高的問題提出 了一種OLED金屬掩膜板對位裝置。

本發明的技術方案為：一種OLED金屬掩膜板對位裝置，包括暗箱，攝像裝置、工控 機和蒸鍍機主PC，所述暗箱內包括平臺以及位于平臺上的OLED基板和位置傳感器，所述 OLED基板通過真空吸附固定在平臺上；

所述攝像裝置安裝于真空裝置內并且通過線路與工控機信號連接，所述攝像裝置用于 獲取OLED金屬掩膜板的對位圖像信息并將所述對位圖像信息通過所述線路傳遞給工控 機；

所述工控機通過線路與蒸鍍機主PC信號連接，用于工控機與蒸鍍機主PC之間通信。

本發明的有益效果：本發明的掩膜板對位裝置通過采用攝像裝置采集OLED基板的對 位圖像并將對位圖像信息傳遞給工控機進行處理，所述處理信號及預先設置的精度信息實 現對OLED基板的二次定位，從而實現提高OLED金屬掩膜板對位精度的目的。

附圖說明

圖1為本發明的對位裝置的原理框圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體的實施例對本發明作進一步的闡述。

本發明的一種OLED金屬掩膜板對位裝置如圖1所示，包括暗箱1，攝像裝置2工控 機3和蒸鍍機主PC，所述暗箱1內包括平臺11以及位于平臺上的OLED基板12和位置傳 感器13，所述OLED基板通過真空吸附固定在平臺上；所述CCD攝像機安裝于真空裝置1 內并且通過線路與工控機信號連接，所述I2C總線用于獲取OLED金屬掩膜板的對位圖像 信息并將所述對位圖像信息通過所述線路傳遞給工控機；所述工控機通過線路與蒸鍍機主 PC信號連接，用于工控機與蒸鍍機主PC之間通信。

這里的OLED金屬掩膜板對位裝置還包括與工控機實現信號連接的顯示器，用于顯示 控制參數及狀態等信息。

這里的工控機與蒸鍍機主PC具體通過I2C總線實現信號連接。

這里的工控機包括圖像采集卡、數據處理單元和輸入輸出接口。

這里的攝像裝置2具體為高清CCD攝像機。

所述對位裝置的工作原理是：當載有OLED被測件的基板到達測試區域后，位置傳感 器因接收到基板就位的信息而產生觸發電平信號使暗箱門關閉，圖像采集卡接收到觸發電 平信號后發出一個信號觸發高精度CCD攝像機進行圖形采集，此時位于暗箱內的環形LED 照明補光系統處于打開狀態以輔助CCD攝像機獲得更準確的對位圖像。