[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410706831.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104849902A | 公開(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金是廣;金泰均;李亨燮;成宇鏞;車泰運(yùn);崔相虔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/1334 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓芳;譚昌馳 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:
基底;
像素電極,在基底上;
頂層,在像素電極上,并與像素電極分隔開;
多個(gè)微腔,限定在像素電極和頂層之間,每個(gè)微腔包括第一邊緣和與第一邊緣相對(duì)的第二邊緣;
光阻擋構(gòu)件,在所述多個(gè)微腔的相鄰的兩個(gè)微腔之間,與所述兩個(gè)微腔中的一個(gè)微腔的第一邊緣疊置,且不與所述兩個(gè)微腔的另一個(gè)微腔的第二邊緣疊置;
注入孔,暴露微腔的內(nèi)部區(qū)域;
液晶層,在微腔中;以及
包封層,在頂層上,覆蓋注入孔并密封微腔。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件在像素電極和頂層之間。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
第一取向?qū)?,在像素電極上;
第二取向?qū)?,在頂層之下;以?/p>
取向材料列,使第一取向?qū)雍偷诙∠驅(qū)颖舜诉B接。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
第一注入孔,在微腔的第一邊緣側(cè),以及
第二注入孔,在微腔的第二邊緣側(cè)。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中:
取向材料列鄰近于第二注入孔。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件與第一注入孔疊置。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件不與第二注入孔疊置。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件在平面圖中與取向材料列分隔開。
9.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件包括具有表面能高于像素電極的表面能的材料。
10.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
第一絕緣層,在像素電極和光阻擋構(gòu)件之下。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件包括表面能高于第一絕緣層的表面能的材料。
12.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中:
所述多個(gè)微腔在平面圖中為矩陣的形式。
13.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置,其中:
相鄰的所述兩個(gè)微腔豎直地彼此相鄰。
14.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
薄膜晶體管,與像素電極連接,且在相鄰的所述兩個(gè)微腔之間。
15.如權(quán)利要求14所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件與薄膜晶體管疊置。
16.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
共電極,在頂層之下。
17.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中:
光阻擋構(gòu)件與液晶層接觸。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





