[發(fā)明專利]模具鑲件

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410705435.6
• 申請(qǐng)日: 2014-11-27
• 公開（公告）號(hào): CN105689680A
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉建勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山萊捷有色金屬有限公司
• 主分類號(hào): B22D17/22
• 分類號(hào): B22D17/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及模具鑲件技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種具有良好排氣功能的壓 鑄模具鑲件。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)模具鑲件的外形和模具型芯相配定位，利用鑲件上的掛臺(tái)固定在 型芯上，由于鑲件和型芯配合的長度較長且間隙比較小，造成排氣不足， 在深腔時(shí)往往會(huì)因排氣不足而造成有氣孔現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種模具鑲件，以實(shí)現(xiàn)其與模具 型芯配合時(shí)具有良好的排氣性。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種模具鑲件，

包括鑲件本體，設(shè)置在所述鑲件本體一端的呈圓周狀凸出的掛臺(tái)，所 述掛臺(tái)的直徑大于所述鑲件本體的最大直徑；

在所述鑲件本體上沿軸向設(shè)置有上具有水平面的配合位，所述配合位 呈沿軸向水平切削所述掛臺(tái)及鑲件本體的形狀；

沿所述鑲件本體的軸向方向，由所述掛臺(tái)起在所述配合位的下方 5-15mm任一處開一個(gè)深0.5-1.5mm的凹槽，所述凹槽沿所述鑲件本體的徑 向開設(shè)一周形成環(huán)狀。

優(yōu)選的，所述凹槽開設(shè)在所述配合位下方額10mm處，其深度為1mm。

其中，所述配合位的水平面與所述凹槽的底側(cè)平齊，即所述配合位的 水平面與所述凹槽的內(nèi)圓相切。

通過上述技術(shù)方案，本發(fā)明提供的模具鑲件，鑲件在配合位下方10mm 左右開一個(gè)深1mm左右凹槽，利用該凹槽加大整個(gè)鑲件的排氣量，在凹槽 下方開個(gè)配合位引氣，這樣解決了排氣不足的問題，具有排氣量大而解決 因排氣不足而引起的氣孔問題等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述 中所需要使用的附圖作簡單地介紹。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例所公開的模具鑲件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中A部放大結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中數(shù)字表示：

11.鑲件本體12.掛臺(tái)13.配合位14.凹槽

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn) 行清楚、完整地描述。

參考圖1及2，本發(fā)明提供了一種模具鑲件，包括鑲件本體11，設(shè)置 在鑲件本體11一端的呈圓周狀凸出的掛臺(tái)12，掛臺(tái)12的直徑大于鑲件本 體11的最大直徑；在鑲件本體11上沿軸向設(shè)置有上具有水平面的配合位 13，配合位13呈沿軸向水平切削掛臺(tái)12及鑲件本體11的形狀；沿鑲件本 體11的軸向方向，由掛臺(tái)12起在配合位13的下方10mm任一處開一個(gè)深 1.0mm的凹槽14，凹槽14沿鑲件本體11的徑向開設(shè)一周形成環(huán)狀，且配 合位13的水平面與凹槽14的底側(cè)平齊，即配合位13的水平面與凹槽14 的內(nèi)圓相切。

本發(fā)明提供的模具鑲件，鑲件在配合位13下方10mm左右開一個(gè)深1mm 左右凹槽14，利用該凹槽14加大整個(gè)鑲件的排氣量，在凹槽14下方開個(gè) 配合位13引氣，這樣解決了排氣不足的問題，具有排氣量大而解決因排氣 不足而引起的氣孔問題等優(yōu)點(diǎn)。

對(duì)上述實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見 的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下， 在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施 例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。