[發明專利]氮化硅膜制備裝置有效
| 申請號: | 201410704753.0 | 申請日: | 2014-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN104372308B | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發明(設計)人: | 陳五奎;李軍;徐文州;陳磊;上官新龍 | 申請(專利權)人: | 樂山新天源太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/513;C23C16/34 |
| 代理公司: | 成都點睛專利代理事務所(普通合伙)51232 | 代理人: | 葛啟函 |
| 地址: | 614000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氮化 制備 裝置 | ||
1.氮化硅膜制備裝置,包括設置有爐門(1)的真空沉積室(2),真空沉積室(2)內設有石墨舟(3),硅片放置于石墨舟(3)上,真空沉積室(2)上設有進氣口(4)與排氣口(5),所述進氣口(4)上連接有用于通入制程氣體的進氣管(6),所述排氣口(5)上連接有排放管(8),排放管(8)末端連接有真空泵(9),真空泵(9)的進口與排放管(8)的出口相連,真空泵(9)的出口連接有尾排管(10),其特征在于:所述石墨舟(3)下方設置有用于承載石墨舟(3)的托桿(11),所述托桿(11)朝向爐門(1)的一端穿過爐門(1),所述爐門(1)固定在托桿(11)上,所述爐門(1)內側的中央固定有銅電極(21),所述石墨舟(3)朝向爐門(1)的一端設置有電極插孔(22),所述銅電極(21)的位置與電極插孔(22)的位置相對應,所述托桿(11)伸出爐門(1)的一端固定有托架(23),所述托架(23)通過連接桿固定在滑動塊(24)上,所述滑動塊(24)固定在滑竿(25)上,所述滑動塊(24)、滑竿(25)均位于爐門(1)邊緣的外側,所述滑竿(25)的軸線與真空沉積室(2)軸線互相平行,所述滑動塊(24)上連接有使滑動塊(24)沿滑竿(25)移動的驅動裝置,所述真空泵(9)的進口與排氣口(5)之間設置有旁路管(14),所述旁路管(14)上設置有用于使旁路管(14)導通或關閉的旁通閥(15),所述排放管(8)上設置有用于使排放管(8)導通或關閉的工藝閥(16),所述排放管(8)的內徑為50mm-70mm,所述旁路管(14)的內徑為15mm-25mm。
2.如權利要求1所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述爐門(1)包括石英爐門(101)和位于石英爐門(101)外側的支撐體(102)組成,所述支撐體(102)采用生鐵制作而成,所述支撐體(102)的表面開有多個減輕孔(103)。
3.如權利要求2所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述進氣管(6)與進氣口(4)之間設置有氣體混合裝置(12),所述氣體混合裝置(12)包括芯體(121)、殼體(122),芯體(121)設置在殼體(122)內,芯體(121)表面開有螺旋槽(123),所述螺旋槽(123)的內壁與殼體(122)的內壁圍成封閉的螺旋式氣體通道,所述螺旋式氣體通道的一端與進氣管(6)相連,另一端與真空沉積室(2)上設置有的進氣口(4)相連,所述殼體(122)的外表面設置有加熱裝置。
4.如權利要求3所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述加熱裝置包括一層加熱棉(124)與一層絕熱布(125),所述加熱棉(124)與絕熱布(125)之間設置有加熱電阻絲(126),所述加熱電阻絲(126)與電源相連。
5.如權利要求4所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述真空泵(9)的出口與尾排管(10)之間設置有硅烷燃燒室(13)。
6.如權利要求5所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:在真空泵(9)的出口與尾排管(10)之間設置一個內徑為150mm-300mm不銹鋼圓筒形成所述的硅烷燃燒室(13)。
7.如權利要求6所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述圓筒的外表面設置有多個緊固圈,相鄰的緊固圈之間通過金屬條連接在一起。
8.如權利要求7所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述排放管(8)的內徑為60mm,所述旁路管(14)的內徑為20mm。
9.如權利要求8所述的氮化硅膜制備裝置,其特征在于:所述工藝閥(16)、旁通閥(15)均為電磁閥,所述工藝閥(16)上連接有第一觸發式開關(17),所述旁通閥(15)上連接有第二觸發式開關(18),所述真空沉積室(2)內設置有真空計(19),還包括控制器(20),所述第一觸發式開關(17)、第二觸發式開關(18)、真空計(19)分別與控制器(20)電連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





