[發明專利]一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法

在審

• 申請號: 201410704497.5
• 申請日: 2014-11-28
• 公開（公告）號: CN104959564A
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發明（設計）人: 蔡建華
• 申請（專利權）人: 東莞市晉益電子科技有限公司
• 主分類號: B22D17/00
• 分類號: B22D17/00
• 代理公司: 東莞市說文知識產權代理事務所(普通合伙) 44330
• 代理人: 寧尚國

技術領域

本發明涉及壓鑄技術領域，尤其涉及一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法。

背景技術

目前現有的高端手機、平板電腦、筆記本電腦、照相機的金屬殼體生產方法是：將金屬(鋁合金、不銹鋼、鈦合金)坯料通過多次鍛壓形成為初步形狀后再進行機械加工成成品，或使用金屬板料直接進行機械加工成成品，機械加工過程需要通過CNC的大量繁瑣加工。加工過程大量浪費人力物力資源，效率低，產能低及高昂的成本，不能滿足龐大的市場需求。

現急需一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法來解決上述難題。

發明內容

針對上述現有技術，本發明所要解決的技術問題是提供一種能節約人力物力資源，效率高，產能高及成本低，不需要機械加工或少量機械加工的雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法。

為了解決上述技術問題，本發明提供了一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法，包括以下步驟：

A.按要求預制好待壓鑄的金屬工件;

B.將預制好的待壓鑄金屬工件放入壓鑄模型腔內，合模注入熔溶狀態的液態金屬，壓鑄成型成無縫隙的雙金屬鑄件;

C.將雙金屬鑄件去除毛刺。

本發明的進一步改進為，所述雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法還包括以下步驟：

D.將去除毛刺后的雙金屬鑄件進行件機加工。

本發明的進一步改進為，所述雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法還包括以下步驟：

E.將件機加工后的雙金屬鑄件進行陽極氧化或其他表面處理。

本發明的進一步改進為，所述雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法還包括以下步驟：

F.將陽極氧化或其他表面處理后的雙金屬鑄件再進行其他表面裝飾處理。

本發明的進一步改進為，所述金屬工件為鋁合金工件、不銹鋼工件、鈦合金工件。

本發明的進一步改進為，所述液態金屬為鋁合金、鎂合金、鋅合金的液態金屬。

本發明的進一步改進為，所述雙金屬鑄件主要用于手機、平板電腦、筆記本電腦、照相機的殼體。

與現有技術相比，本發明的優點在于，該發明采用將預制好的待壓鑄金屬工件放入壓鑄模型腔內，合模注入熔溶狀態的液態金屬，壓鑄成型成無縫隙的雙金屬鑄件，然后將雙金屬鑄件去除毛刺，進行件機加工，進行陽極氧化或其他表面處理等;?該雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法能節約人力物力資源，效率高，產能高及成本低，因在待壓鑄金屬工件上可以制作出需要的形狀、結構，故本發明不需要機械加工或少量機械加工。

附圖說明

圖1為本發明的生產流程圖。

具體實施方式

下面對本發明作進一步詳細說明，但不作為對本發明的限定。

目前現有的高端手機、平板電腦、筆記本電腦、照相機的金屬殼體生產方法是：將金屬(鋁合金、不銹鋼、鈦合金)坯料通過多次鍛壓形成為初步形狀后再進行機械加工成成品，或使用金屬板料直接進行機械加工成成品，機械加工過程需要通過CNC的大量繁瑣加工。加工過程大量浪費人力物力資源，效率低，產能低及高昂的成本，不能滿足龐大的市場需求。為解決上述現有技術的不足，經過對壓鑄技術的不斷研究及摸索，特提出本發明的一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法。

本發明提供一種雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法，生產流程圖如圖1所示，包括以下步驟：

A.按要求預制好待壓鑄的金屬工件;

B.將預制好的待壓鑄金屬工件放入壓鑄模型腔內，合模注入熔溶狀態的液態金屬，壓鑄成型成無縫隙的雙金屬鑄件;

C.將雙金屬鑄件去除毛刺。

優選地，所述雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法還包括以下步驟：

D.將去除毛刺后的雙金屬鑄件進行件機加工;

E.將件機加工后的雙金屬鑄件進行陽極氧化或其他表面處理;

F.將陽極氧化或其他表面處理后的雙金屬鑄件再進行其他表面裝飾處理。

具體地，所述金屬工件為鋁合金工件、不銹鋼工件、鈦合金工件。所述液態金屬為鋁合金、鎂合金、鋅合金的液態金屬。所述雙金屬鑄件主要用于手機、平板電腦、筆記本電腦、照相機的殼體。

本發明的優點在于，該發明采用將預制好的待壓鑄金屬工件放入壓鑄模型腔內，合模注入熔溶狀態的液態金屬，壓鑄成型成無縫隙的雙金屬鑄件，然后將雙金屬鑄件去除毛刺，進行件機加工，進行陽極氧化或其他表面處理等;?該雙金屬無縫隙嵌鑄工件的生產方法能節約人力物力資源，效率高，產能高及成本低，因在待壓鑄金屬工件上可以制作出需要的形狀、結構，不需要機械加工或少量機械加工。

以上內容是結合具體的優選實施方式對本發明所作的進一步詳細說明，不能認定本發明的具體實施只局限于這些說明。對于本發明所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發明的保護范圍。