[發(fā)明專利]一種太陽能電池片的濕法蝕刻方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410699196.8 | 申請日： | 2014-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN104409396A | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 童銳;張小剛;柯希滿;楊大誼 | 申請（專利權(quán)）人： | 太極能源科技（昆山）有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;H01L31/18;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務(wù)所 31219 | 代理人： | 李儀萍 |
| 地址： | 215333 江蘇省蘇州市昆山*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 太陽能電池 濕法 蝕刻 方法 裝置 | ||
1.一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，包括依次放置的蝕刻槽、第一清洗槽、堿洗槽、第二清洗槽、酸洗槽及第三清洗槽；所述第一清洗槽的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀及第二水刀；其特征在于：
所述濕法蝕刻裝置還包括第一儲液槽及第二儲液槽；
所述第二儲液槽分別通過連接管道與所述第三清洗槽及所述第二水刀相連，當(dāng)所述第三清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時(shí)，排放多余的液體至所述第二儲液槽，所述第二儲液槽為所述第二水刀供液；
所述第一儲液槽通過連接管道分別與所述第一清洗槽及所述蝕刻槽相連，所述第一清洗槽為所述第一水刀供液，當(dāng)所述第一清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時(shí)，排放多余的液體至所述第一儲液槽，所述第一儲液槽中的液體用于為所述蝕刻槽補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽的蝕刻液配液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述第二儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第二儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時(shí)，多余的液體直接排走。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述第一儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第一儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時(shí)，多余的液體直接排走。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述第一儲液槽與所述蝕刻槽之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述第二儲液槽與所述第二水刀之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述第三清洗槽中的液體為去離子水。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于：所述蝕刻槽中的蝕刻液為硝酸及氫氟酸的混合液；所述酸洗槽中的酸洗液為氫氟酸及鹽酸的混合液。
8.一種太陽能電池片的濕法蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟：
提供一太陽能電池片，通過傳送裝置將所述太陽能電池片依次通過蝕刻槽、第一清洗槽、堿洗槽、第二清洗槽、酸洗槽及第三清洗槽；
其中：
所述第一清洗槽的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀及第二水刀；當(dāng)所述太陽能電池片到達(dá)所述第一清洗槽時(shí)，所述第一水刀及第二水刀分別對所述太陽能電池片的正面及背面進(jìn)行噴洗；
所述第三清洗槽通過連接管道連接于第二儲液槽，所述第三清洗槽中不斷補(bǔ)充去離子水，當(dāng)所述第三清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時(shí)，通過連接管道排放多余的液體至所述第二儲液槽，所述第二儲液槽通過連接管道為所述第二水刀供液；當(dāng)所述第二儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時(shí)，多余的液體通過設(shè)置于所述第二儲液槽上的排放口直接排走；
所述第一清洗槽通過連接管道連接于第一儲液槽，當(dāng)所述第一清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時(shí)，排放多余的液體至所述第一儲液槽；當(dāng)所述第一儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時(shí)，多余的液體設(shè)置于所述第一儲液槽上的排放口直接排走；
所述蝕刻槽通過連接管道連接于所述第一儲液槽，所述第一儲液槽中的液體通過該連接管道為所述蝕刻槽補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽的蝕刻液配液。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的太陽能電池片的濕法蝕刻方法，其特征在于：通過裝設(shè)于所述第一儲液槽與所述蝕刻槽之間的連接管道上的泵體及流量閥來控制所述第一儲液槽為所述蝕刻槽的補(bǔ)水速度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的太陽能電池片的濕法蝕刻方法，其特征在于：通過裝設(shè)于所述第二儲液槽與所述第二水刀之間的連接管道上的泵體及流量閥來控制所述第二儲液槽為所述第二水刀的供液速度。
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H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
