[發(fā)明專利]一種聚焦電子束蒸發(fā)源及蒸發(fā)鍍膜裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410698963.3
• 申請日: 2014-11-28
• 公開（公告）號(hào): CN104611672A
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張賽;孫雪平;易文杰;彭立波
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
• 主分類號(hào): C23C14/30
• 分類號(hào): C23C14/30
• 代理公司: 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 馬強(qiáng)

1.?一種聚焦電子束蒸發(fā)源，其特征在于，包括：

電子束產(chǎn)生裝置（10）：用于產(chǎn)生大束流平行電子束（11）；

電子束傳輸裝置：用于使所述大束流平行電子束（11）加速后聚集為匯聚束（12），并傳輸?shù)诫娮邮钚∈呶恢茫?3）；

蒸發(fā)材料輸送裝置（16）：用于在接收到電子束檢測裝置（15）的檢測信號(hào)后將絲狀蒸發(fā)材料（17）輸送到所述電子束最小束斑位置（13）；

至少一個(gè)電子束檢測裝置（15）：用于檢測經(jīng)過電子束最小束斑位置（13）之后的發(fā)散束（14）。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦電子束蒸發(fā)源，其特征在于，所述絲狀蒸發(fā)材料的縱截面直徑與所述匯聚束（12）的最小束斑直徑匹配。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚焦電子束蒸發(fā)源，其特征在于，所述電子束產(chǎn)生裝置為環(huán)行槍、直槍、e型槍、空心陰極槍中的一種。

4.一種聚焦電子束蒸發(fā)鍍膜裝置，包括真空腔體（41）；待鍍膜基片（43）放置在所述真空腔體（41）內(nèi)；所述真空腔體（41）與抽氣系統(tǒng)（44）連通；其特征在于，所述待鍍膜基片（43）下方的真空腔體（41）內(nèi)設(shè)置有權(quán)利要求1～3之一所述的聚焦電子束蒸發(fā)源。