[發(fā)明專利]一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410695981.6 | 申請日: | 2014-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN104324668A | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樂衛(wèi)敏 | 申請(專利權(quán))人: | 樂衛(wèi)敏 |
| 主分類號: | B01J6/00 | 分類號: | B01J6/00;G01N1/36 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區(qū)博深專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志崢 |
| 地址: | 350000 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 組織 包埋 機(jī)熔蠟 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域,具體地說是一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置。
背景技術(shù)
組織包埋機(jī)是對人體或動(dòng)植物標(biāo)本經(jīng)脫水浸蠟后進(jìn)行組織蠟塊包埋,以供切片后作組織學(xué)診斷或研究的設(shè)備,石蠟包埋是醫(yī)院臨床上人體和動(dòng)植物生物組織切片檢驗(yàn)的重要工序。制作切片或超薄切片時(shí),由于組織質(zhì)地柔軟,或局部的軟硬不均,這樣難以制作厚薄均勻的切片。所以必須先用某些特殊物質(zhì)浸透組織內(nèi)部,使整個(gè)組織硬化并包裹住組織以起到支持作用,再用切片機(jī)制作切片。石蠟包埋是先將熔化的石蠟注入包埋托內(nèi),而后用鑷子將經(jīng)過浸蠟的組織塊從脫水盒中取出,放入包埋托中央,放在小冷臺(tái)上,用鑷子輕按組織塊,以達(dá)到組織塊平整,蓋上脫水盒底,再加好石蠟,移至冷凍臺(tái)上,待冷凍好后,卸下組織蠟塊待切?,F(xiàn)有的組織包埋機(jī)均設(shè)有熔蠟裝置,熔蠟裝置包括單熔蠟缸、加熱裝置和設(shè)置于單熔蠟缸底部的出蠟管,這種熔蠟裝置的缺陷有:
1、無法保證包埋工作的連續(xù)性。由于石蠟導(dǎo)熱慢,組織包埋機(jī)的熔蠟缸容積有限,導(dǎo)致包埋過程中經(jīng)常出現(xiàn)熔蠟缸中融化的石蠟用盡,而后添加的石蠟又必須等待數(shù)小時(shí)方可融化的情況,致使包埋工作被迫中斷;出蠟管管口達(dá)不到石蠟的熔化溫度使得石蠟硬化、積壓,堵住出蠟管管口。
2、石蠟與雜質(zhì)分離效果不佳。單熔蠟缸使石蠟在一個(gè)缸內(nèi)融化,石蠟中的雜質(zhì)等沉淀物無法與液態(tài)石蠟分離,與石蠟一同被包埋到組織中,造成包埋質(zhì)量下降;或者僅在出蠟管處設(shè)置過濾網(wǎng),使得流速較快的液體長期沖擊濾網(wǎng)而容易導(dǎo)致濾網(wǎng)受損的問題。
為了克服上述缺陷,往往需另外購置熔蠟器或恒溫箱確保備用石蠟的供應(yīng),但這樣做又極大地增加了成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:提供一種可連續(xù)出蠟的組織包埋機(jī)熔蠟裝置。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置,包括主熔蠟缸和輔熔蠟缸,所述輔熔蠟缸設(shè)有第一加熱裝置,所述主熔蠟缸底部設(shè)有出蠟管,所述主熔蠟缸和輔熔蠟缸之間設(shè)有輸蠟管,所述輔熔蠟缸設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口,所述輔熔蠟缸密封設(shè)置,所述出蠟管管口設(shè)有第二加熱裝置。
本發(fā)明的有益效果在于:輔熔蠟缸可向主熔蠟缸及時(shí)提供備用蠟,確保液態(tài)石蠟不間斷供應(yīng),無需等待;出蠟管管口設(shè)有的加熱裝置可以給管口石蠟單獨(dú)加熱,防止石蠟冷卻硬化,保證流蠟暢通,不堵蠟;通過向進(jìn)氣口通入高壓氣體控制輸蠟管輸送液態(tài)石蠟,無需在輸蠟管內(nèi)設(shè)控制閥,可避免漏蠟。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例組織包埋機(jī)熔蠟裝置立體圖。
圖2為本發(fā)明實(shí)施例組織包埋機(jī)熔蠟裝置剖視圖。
標(biāo)號說明:
1、主熔蠟缸;11、出蠟管;2、輔熔蠟缸;21、缸體;22、蓋體;23、進(jìn)氣口;3、輸蠟管;4、隔熱層;5、液位傳感器。
具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、所實(shí)現(xiàn)目的及效果,以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖予以說明。
本發(fā)明最關(guān)鍵的構(gòu)思在于:在原來的熔蠟缸基礎(chǔ)上增加一個(gè)輔熔蠟缸,輔熔蠟缸設(shè)有加熱裝置、溫度控制裝置、進(jìn)氣口和與原熔蠟缸相連接的輸蠟管,原出蠟管管口增設(shè)加熱裝置防止石蠟硬化堵住管口,通過向進(jìn)氣口通入高壓氣體控制輸蠟管中液態(tài)石蠟的輸送,可確保包埋工作的連續(xù)。
請參照圖1和圖2,一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置,包括主熔蠟缸1和輔熔蠟缸2,所述輔熔蠟缸2設(shè)有第一加熱裝置,所述主熔蠟缸1底部設(shè)有出蠟管11,所述主熔蠟缸1和輔熔蠟缸2之間設(shè)有輸蠟管3,所述輔熔蠟缸2設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口23,所述輔熔蠟缸2密封設(shè)置,所述出蠟管11管口設(shè)有第二加熱裝置。
從上述描述可知,本發(fā)明的有益效果在于:輔熔蠟缸2可向主熔蠟缸1及時(shí)提供備用蠟,確保液態(tài)石蠟不間斷供應(yīng),無需等待;出蠟管11管口設(shè)有的加熱裝置可以給管口石蠟單獨(dú)加熱,防止石蠟冷卻硬化,保證流蠟暢通,不堵蠟;通過向進(jìn)氣口23通入高壓氣體控制輸蠟管3輸送液態(tài)石蠟,無需在輸蠟管3內(nèi)設(shè)控制閥,可避免漏蠟。
進(jìn)一步的,所述第一加熱裝置連接有第一溫度控制裝置。
由上述描述可知,第一溫度控制裝置可將輔熔蠟缸2內(nèi)的溫度控制在高于石蠟熔點(diǎn)且低于雜質(zhì)熔點(diǎn)的范圍內(nèi),使雜質(zhì)在輔熔蠟缸2內(nèi)沉淀下來。
進(jìn)一步的,所述進(jìn)氣口23設(shè)置于所述輔熔蠟缸2上部,所述輸蠟管3設(shè)置于主熔蠟缸1和輔熔蠟缸2的上部,所述輸蠟管3位于輔熔蠟缸2的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸2內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸2底部留有距離。
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