[發明專利]一種采用導電高分子材料制作一體化觸控電容屏的方法在審
| 申請號: | 201410695768.5 | 申請日: | 2014-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN104331209A | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發明(設計)人: | 鄭美珠;楊朝彬;張洪偉;魏先升;馬振軍 | 申請(專利權)人: | 中環高科(天津)股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/044 | 分類號: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 天津中環專利商標代理有限公司 12105 | 代理人: | 胡京生 |
| 地址: | 300385 天津市西*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 導電 高分子材料 制作 一體化 電容 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一體化觸控?(TOL)電容式觸摸屏的制作工藝,特別涉及一種采用導電高分子材料制作一體化觸控電容屏的方法。
背景技術
隨著手機、平板電腦用電容式觸摸屏的飛速發展,電容式觸摸屏(OGS)的生產廠家也在迅速增加,OGS在強化方面無法滿足手機廠商的要求時,一部分廠商開始研究制作小片OGS產品即TOL電容式觸摸屏。目前,由于TOL電容式觸摸屏的生產工藝流程復雜,設備產能有限,批量生產的廠家屈指可數。因此,傳統的OGS的生產工藝給生產廠家的生存和發展帶來很大的不利,也不利于行業發展,而且現有TOL電容式觸摸屏產品的導電層為氧化銦錫,氧化銦錫是使用鍍膜方式鍍到玻璃蓋板上,效率低且成本高。由于TOL電容式觸摸屏氧化銦錫(ITO)主要通過鍍膜工藝制作完成,其制作成本和強化問題一直是一些生產廠家的瓶頸,ITO不能采用涂布方式涂布到玻璃蓋板上,并且投資鍍膜線成本極高,同時,由于觸摸屏是用于顯示器上,使用條件為自然條件,在使用過程中要長期的被按壓,當高溫、高濕、寒冷、光照、驟冷驟熱等自然條件下,可見光透過率、電阻性能、耐老化性能、打擊性能、線性度等方面都要保持優良品質。
導電高分子材料目前在透過率,電阻性能上已經基本接近于ITO產品;ITO產品在高溫高濕(60℃、95%RH)條件下,經過500小時之后電阻變化比較大,而導電高分子材料在相同條件下基本性能參數幾乎沒有變化,所以導電高分子材料耐老化效果要好于ITO產品;可靠性方面ITO比較脆,導電高分子材料比ITO材料具有更高的對機械性壓力的耐久性,即使反復筆點觸和按壓也很少發生ITO導電性變差的問題,因而可以延長觸摸屏壽命實現高可靠性,線性度方面目前制作出來的樣品導電高分子材料也可以滿足市場需求,但是較ITO材料均勻性要差一些,價格上導電高分子材料要比ITO材料便宜1/2。
發明內容
??鑒于上述現有技術存在的問題,本發明研發一種采用導電高分子材料制作TOL電容屏的方法,將導電高分子材料替代ITO材料在玻璃上制作TOL電容式觸摸屏,可以應用到無鍍膜生產線的廠家,能減少工藝流程及材料損耗以及減少鍍膜設備昂貴的投資。具體技術方案是,一種采用導電高分子材料制作一體化觸控電容屏的方法,其特征在于:???????????????????????????????????????????????、在手機或平板電腦成品玻璃蓋板背面,將導電高分子材料采用噴涂的方式均勻的涂上,使用隧道爐烘干;
、將不需要圖案位置絲印上蝕刻膏,絲印出圖案,絲印蝕刻膏厚度為14um~16um、印刷線條寬度為25um~35um,送傳送式烘烤爐烘烤,溫度為130℃~140℃、傳送速度為1.5~1.8m/min,然后用清水清洗掉蝕刻膏,剩下的圖案即是想要得到的導電高分子材料圖案,形成一層導電高分子導電區域;
、在第一層的基礎上絲印導電銀漿,使導電高分子圖案與導電銀線搭接,形成通路,絲印導電銀漿油墨厚度為6~8um,然后烘烤銀漿,烘烤箱溫度為130~150℃、時間為60分鐘;
、用激光蝕刻機蝕刻導電銀漿,蝕刻寬度35um,使得銀漿區域形成所需要的線路,激光機參數,速度2500mm/s、頻率300HZ、電流50A;
、銀漿位置被激光打穿的油墨需要進行絲印補油墨,使得被激光打穿的位置補上的油墨與原蓋板顏色保持一致;
、使用熱壓工藝將帶觸控IC的柔性線路板與步驟制作出來的半成品進行熱壓,熱壓溫度170~180℃、時間12~15s;
、對產品進行功能測試,區分不良品。
本發明的有益效果是取代了傳統電容式觸摸屏的導電層材料,解決了OGS電容式觸摸屏制做強化達不到客戶要求的問題,節省了鍍膜生產設備的投資,制作工藝簡單,生產效率高,降低了制作過程中的損耗,成本低,合格率可達75﹪以上。
具體實施方式
以下結合實例對本發明作進一步說明,本方法通過涂布的方式,將TOL電容式觸摸屏分為七個步驟進行制作,以手機4寸產品用TOL電容式觸摸屏為例,其步驟如下:
、在手機或平板電腦成品玻璃蓋板背面,將導電高分子材料用真空鍍膜的方式均勻的鍍上或者采用涂布的方式均勻的涂上,使用隧道爐烘干,烘烤溫度130℃,使得導電性能及附著力,外觀等達到品質要求;
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