[發明專利]一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法有效
| 申請號： | 201410690649.0 | 申請日： | 2014-11-25 |
| 公開（公告）號： | CN104404437A | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 李長久;李成新;楊冠軍;陳清宇 | 申請（專利權）人： | 西安交通大學 |
| 主分類號： | C23C4/12 | 分類號： | C23C4/12 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人： | 陸萬壽 |
| 地址： | 710049 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大幅度 提高 飛行 粒子 氣化 功率 等離子 噴涂 方法 | ||
1.一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，使用噴涂系統進行等離子噴涂，噴涂時控制涂層沉積壓力低于500Pa；其中，噴涂時在等離子噴槍體外輔助設置聚束罩(1)，所述聚束罩(1)呈筒狀，聚束罩(1)一端通過螺紋孔(11)與等離子噴槍噴嘴直接相連；聚束罩(1)中設有一個喇叭狀通道(12)，喇叭狀通道(12)的入口(121)的直徑為噴嘴出口處直徑的1-5倍；喇叭狀通道(12)的出口(122)內徑大于或等于20mm；喇叭狀通道(12)的長度為50-150mm；所述噴涂系統進行噴涂時等離子噴涂電弧功率小于45kW。
2.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，聚束罩(1)的喇叭狀通道(12)外周通有冷卻水。
3.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，聚束罩(1)的喇叭狀通道(12)的出口(122)距離被噴涂基體的距離為大于100mm。
4.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，噴涂時噴涂系統的參數為：Ar?40-70L/min，H28-15L/min，陶瓷粉末的送粉量為大于或等于0.2g/min。
5.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，聚束罩(1)與噴嘴連接處的螺紋孔(11)的內徑為28mm，入口(121)的直徑為28mm，出口(122)直徑為40mm，長度為50mm。
6.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，出口(122)的直徑大于入口(121)的直徑。
7.根據權利要求1所述的一種大幅度提高飛行粒子氣化的低功率等離子噴涂的方法，其特征在于，所述聚束罩(1)的材質為銅。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
