[發明專利]一種紅外波段光闌復合膜、制備方法及復合材料

有效

• 申請號: 201410684767.0
• 申請日: 2014-11-25
• 公開（公告）號: CN104354365A
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發明（設計）人: 劉鳳玉;劉佳琳;王一堅;陳小鵬
• 申請（專利權）人: 中國航空工業集團公司洛陽電光設備研究所
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/00;C23C14/08;C23C14/18
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 牛愛周

1.一種紅外波段光闌復合膜，其特征在于，所述復合膜具有兩層膜結構，其中第一層膜材料為二氧化鉿，第二層膜材料為鉻。

2.如權利要求1所述的紅外波段光闌復合膜，其特征在于，所述第一層膜的厚度為50~60nm。

3.如權利要求1所述的紅外波段光闌復合膜，其特征在于，所述第二層膜的厚度為600nm。

4.一種如權利要求1所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，包括以下操作步驟：

1）被鍍零件清洗后放入真空鍍膜設備中，抽真空；

2）鍍制二氧化鉿膜層至所需二氧化鉿膜層厚度；

3）鍍制鉻膜層至所需鉻膜層厚度的2/3；

4）取出被鍍零件清洗后重新放入真空鍍膜設備，抽真空，鍍制鉻膜層至所需的鉻膜層厚度，即完成紅外波段光闌復合膜的制備。

5.如權利要求4所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，所述被鍍零件的材料為氟化鈣。

6.如權利要求4所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，步驟1）中所述抽真空至1×10^-3Pa~8×10^-4Pa。

7.如權利要求4所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，步驟2）中二氧化鉿膜層的具體鍍制方法為：二氧化鉿膜料放在坩堝內進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為5×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發速率為0.2nm/s～0.4nm/s。

8.如權利要求4所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，步驟3）和步驟4）中鉻膜層的鍍制方法為：鉻膜料放在坩堝內進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為1×10^-3Pa~8×10^-4Pa，蒸發速率為0.6nm/s～0.8nm/s。

9.如權利要求7或8所述的紅外波段光闌復合膜的制備方法，其特征在于，所述蒸鍍的蒸發源為電子束蒸發源或電阻蒸發源。

10.一種使用如權利要求1所述的復合膜的紅外波段光闌復合材料，其特征在于，包括基底和附著在基底上的復合膜，所述基底材料為氟化鈣，所述復合膜的內層膜材料為二氧化鉿，外層膜材料為鉻。