[發明專利]一種母板、對盒后的母板、對應制作方法及液晶顯示面板有效
| 申請號: | 201410683152.6 | 申請日: | 2014-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN104330912B | 公開(公告)日: | 2017-12-26 |
| 發明(設計)人: | 姜妮;向西;李坤 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 母板 對應 制作方法 液晶顯示 面板 | ||
1.一種母板,包括:襯底基板以及位于所述襯底基板上呈矩陣排列的多個具有對位標記的基板單元;沿著所述襯底基板上的切割線涂布有封框膠,所述對位標記位于封框膠所在區域內;其特征在于:
所述對位標記用于提高所述母板與其他母板之間的對位精度;
至少所述對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠。
2.如權利要求1所述的母板,其特征在于,所述透明的封框膠的材料包括:丙烯酸環氧樹脂、N-乙烯吡咯烷酮、光引發劑和光敏增效劑。
3.如權利要求1或2所述的母板,其特征在于,所述母板包括呈矩陣排列的多個陣列基板單元,所述對位標記與所述陣列基板單元中的柵線或數據線同層設置;或,
所述母板包括呈矩陣排列的多個對向基板單元,所述對位標記與所述對向基板單元中的黑矩陣同層設置。
4.一種對盒后的母板,包括:相對而置的第一母板與第二母板;所述第一母板包括第一襯底基板以及位于所述第一襯底基板上呈矩陣排列的多個具有第一對位標記的陣列基板單元;所述第二母板包括第二襯底基板以及位于所述第二襯底基板上呈矩陣排列的多個具有第二對位標記的對向基板單元;其特征在于:
沿著所述第一襯底基板上的切割線涂布有封框膠,所述第一對位標記位于封框膠所在區域內,至少所述第一對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠;和/或,
沿著所述第二襯底基板上的切割線涂布有封框膠,所述第二對位標記位于封框膠所在區域內,至少所述第二對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠。
5.如權利要求4所述的對盒后的母板,其特征在于,所述透明的封框膠的材料包括:丙烯酸環氧樹脂、N-乙烯吡咯烷酮、光引發劑和光敏增效劑。
6.如權利要求4或5所述的對盒后的母板,其特征在于,所述第一對位標記與所述陣列基板單元中的柵線或數據線同層設置;
所述第二對位標記與所述對向基板單元中的黑矩陣同層設置。
7.一種液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板是將如權利要求4-6任一項所述的對盒后的母板切割后得到的。
8.一種母板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成呈矩陣排列的多個具有對位標記的基板單元的圖形;
沿著所述襯底基板上的切割線涂布封框膠;其中,所述對位標記位于封框膠所在區域內,至少所述對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠。
9.如權利要求8所述的方法,其特征在于,所述透明的封框膠的材料包括:丙烯酸環氧樹脂、N-乙烯吡咯烷酮、光引發劑和光敏增效劑。
10.如權利要求8或9所述的方法,其特征在于,所述母板包括呈矩陣排列的多個陣列基板單元,所述在襯底基板上形成對位標記的圖形,具體包括:
采用一次構圖工藝,在形成各所述陣列基板單元的圖形中的柵線或數據線圖形的同時形成所述對位標記的圖形;或,
所述母板包括呈矩陣排列的多個對向基板單元,所述在襯底基板上形成對位標記的圖形,具體包括:
采用一次構圖工藝,在形成各所述對向基板單元的圖形中的黑矩陣圖形的同時形成所述對位標記的圖形。
11.一種對盒后的母板的制作方法,其特征在于,包括:
在第一襯底基板上形成呈矩陣排列的多個具有第一對位標記的陣列基板單元的圖形,在第二襯底基板上對應形成呈矩陣排列的多個具有第二對位標記的對向基板單元的圖形;
沿著所述第一襯底基板上的切割線涂布封框膠;其中,所述第一對位標記位于封框膠所在區域內,至少所述第一對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠;和/或,沿著所述第二襯底基板上的切割線涂布封框膠;其中,所述第二對位標記位于封框膠所在區域內,至少所述第二對位標記處涂布的封框膠為透明的封框膠;
將所述第一襯底基板與所述第二襯底基板進行對盒處理。
12.如權利要求11所述的方法,其特征在于,所述透明的封框膠的材料包括:丙烯酸環氧樹脂、N-乙烯吡咯烷酮、光引發劑和光敏增效劑。
13.如權利要求11或12所述的方法,其特征在于,所述在第一襯底基板上形成第一對位標記的圖形,具體包括:
采用一次構圖工藝,在形成各所述陣列基板單元的圖形中的柵線或數據線圖形的同時形成所述第一對位標記的圖形;
所述在第二襯底基板上形成第二對位標記的圖形,具體包括:
采用一次構圖工藝,在形成各所述對向基板單元的圖形中的黑矩陣圖形的同時形成所述第二對位標記的圖形。
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