[發(fā)明專利]一種數(shù)據(jù)指標的動態(tài)分析方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410682496.5 | 申請日: | 2014-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN104484341A | 公開(公告)日: | 2015-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王義輝 | 申請(專利權(quán))人: | 北京奇虎科技有限公司;奇智軟件(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/30 | 分類號: | G06F17/30;G06Q10/06;G06Q30/02 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 劉祥景 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 數(shù)據(jù) 指標 動態(tài) 分析 方法 裝置 | ||
1.一種數(shù)據(jù)指標的動態(tài)分析方法,包括:
確定所述動態(tài)分析所對應(yīng)的時間段;
依據(jù)各數(shù)據(jù)指標在所述時間段內(nèi)的數(shù)據(jù)樣本,對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標;其中,M為正整數(shù);
以所述時間段內(nèi)各時間單位對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標作為軌跡點的坐標,繪制所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡;
將所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡顯示在屏幕上。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
依據(jù)所述軌跡點到原點的距離,繪制所有數(shù)據(jù)指標的綜合質(zhì)量隨時間變化的軌跡。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
在繪制所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡的同時,依據(jù)所述M個數(shù)據(jù)指標對應(yīng)向量與各數(shù)據(jù)指標的數(shù)據(jù)樣本對應(yīng)向量的相關(guān)系數(shù),繪制所述各數(shù)據(jù)指標的特征方向線。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)各數(shù)據(jù)指標在所述時間段內(nèi)的數(shù)據(jù)樣本,對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標的步驟,包括:
統(tǒng)計各數(shù)據(jù)指標的數(shù)據(jù)樣本的均值;
依據(jù)各數(shù)據(jù)指標的數(shù)據(jù)樣本與對應(yīng)均值的差值,對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標。
5.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)各數(shù)據(jù)指標在所述時間段內(nèi)的數(shù)據(jù)樣本,對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標的步驟,包括:
利用主成分分析方法對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標。
6.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的方法,其特征在于,所述原點為絕對原點,或者,所述原點為依據(jù)所有數(shù)據(jù)指標的數(shù)據(jù)樣本中的預(yù)置低質(zhì)量點糾正得到的相對原點。
7.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的方法,其特征在于,所述M大于等于2且小于等于4。
8.一種數(shù)據(jù)指標的動態(tài)分析裝置,包括:
確定模塊,用于確定所述動態(tài)分析所對應(yīng)的時間段;
降維處理模塊,用于依據(jù)各數(shù)據(jù)指標在所述時間段內(nèi)的數(shù)據(jù)樣本,對所有數(shù)據(jù)指標進行降維處理,得到符合預(yù)置貢獻率條件的M個數(shù)據(jù)指標;其中,M為正整數(shù);
第一繪制模塊,用于以所述時間段內(nèi)各時間單位對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標作為軌跡點的坐標,繪制所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡;及
顯示模塊,用于將所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡顯示在屏幕上。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,還包括:
第二繪制模塊,用于依據(jù)所述軌跡點到原點的距離,繪制所有數(shù)據(jù)指標的綜合質(zhì)量隨時間變化的軌跡。
10.如權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,所述第一繪制模塊,還用于在繪制所述軌跡點對應(yīng)的M個數(shù)據(jù)指標隨時間變化的軌跡的同時,依據(jù)所述M個數(shù)據(jù)指標對應(yīng)向量與各數(shù)據(jù)指標的數(shù)據(jù)樣本對應(yīng)向量的相關(guān)系數(shù),繪制所述各數(shù)據(jù)指標的特征方向線。
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