[發明專利]掩膜板的清洗方法及清洗裝置

有效

• 申請號: 201410677403.X
• 申請日: 2014-11-21
• 公開（公告）號: CN104409328B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 李金川
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/67;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種掩膜板的清洗方法，所述掩膜板設置有蒸鍍孔，其特征在于，所述清洗方法包括：

提供堿性導電溶液，并將所述掩膜板浸沒于所述堿性導電溶液中；

將所述掩膜板連接于電源的陽極和陰極中的一個，且所述電源的陽極和陰極中的另一個浸沒于所述堿性導電溶液中，其中所述電源的陽極和陰極分別連接有金屬板，且掩膜板與金屬板之間具有預定距離；

接通所述電源，使所述堿性導電溶液發生電離反應并生成氣體，所述氣體在所述堿性導電溶液中產生的氣泡運動至所述掩膜板時具有的直徑大于或等于所述蒸鍍孔的直徑，從而通過所述氣體將所述掩膜板上的污染物帶離所述掩膜板。

2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述堿性導電溶液包括氫氧化鉀溶液和氫氧化鈉溶液的任意組合，且所述堿性導電溶液的pH值大于或等于11。

3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述掩膜板連接于所述電源的陰極，所述電源的陽極浸沒于所述堿性導電溶液中。

4.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述將所述掩膜板浸沒于所述堿性導電溶液中之前，所述清洗方法包括：

利用有機溶劑清洗所述掩膜板，以清除所述掩膜板上的有機材料。

5.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述接通所述電源之后，且所述堿性導電溶液發生電離反應并生成氣體的同時，所述清洗方法進一步包括：

以預定頻率的超聲波震蕩所述掩膜板。

6.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述電源的陽極和陰極連接有相同材質的金屬板，所述金屬板的制造材質包括銅。

7.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述接通所述電源之后，且所述堿性導電溶液發生電離反應并生成氣體的同時，所述清洗方法進一步包括：

按照預定間隔逐漸增大所述電源的放電電流，且所述放電電流的取值范圍為100安培至1000安培之間。

8.一種掩膜板的清洗裝置，所述掩膜板設置有蒸鍍孔，其特征在于，所述清洗裝置包括電源以及盛裝于電解池中的堿性導電溶液，其中，所述電源的陽極和陰極中的一個用于連接所述掩膜板，所述電源的陽極和陰極中的另一個以及所述掩膜板浸沒于所述堿性導電溶液中，其中所述電源的陽極和陰極分別連接有金屬板，掩膜板與金屬板之間具有預定距離，且在所述電源接通后，所述堿性導電溶液發生電離反應并生成氣體，所述氣體在所述堿性導電溶液中產生的氣泡運動至所述掩膜板時具有的直徑大于或等于所述蒸鍍孔的直徑，從而通過所述氣體將所述掩膜板上的污染物帶離所述掩膜板。

9.根據權利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述堿性導電溶液包括氫氧化鉀溶液和氫氧化鈉溶液的任意組合，且所述堿性導電溶液的pH值大于或等于11，所述電源的陰極用于連接所述掩膜板，所述電源的陽極浸沒于所述堿性導電溶液中。