[發(fā)明專利]一種稀土鐵硼磁粉、磁體及磁粉的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410676882.3 | 申請日： | 2014-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN104376944A | 公開（公告）日： | 2015-02-25 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉榮明;劉超超;劉冬;鄒科;高俊彥;李野;王倩;滕陽民;李炳山 | 申請（專利權(quán)）人： | 北礦磁材科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01F1/057 | 分類號： | H01F1/057;H01F1/08;B22F9/16 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人： | 鄭立明;李闖 |
| 地址： | 102600 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 稀土 鐵硼磁粉 磁體 制備 方法 | ||
1.一種稀土鐵硼磁粉，其特征在于，具有Nd2Fe14B型結(jié)構(gòu)，其化學通式為：[RexNd1-x]y(Fe,TM)1-y-zBz，式中，Re為La、Ce或Pr中的至少一種，TM為Co、Nb、Ga、V、Mo、Zr、Cr、W、Ni、Al、Cu、Ti或Si中的至少一種；
x表示Re在Re和Nd總體中的原子百分比，并滿足0﹤x≤99.9的條件；
y表示Re和Nd總體在磁粉整體中的原子百分比，并滿足12≤y≤17的條件；
z表示B在磁粉整體中的原子百分比，并滿足5≤z≤8.5的條件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的稀土鐵硼磁粉，其特征在于，TM為Co、Nb、Ga、V、Mo、Zr、Cr、W、Ni、Al、Cu、Ti或Si中的至少一種，并且這些元素在Fe和TM總體中的原子百分比分別為：Co為0～20.0at.％，Nb為0～1.0at.％，Ga為0～3.0at.％，Mo為0～1.0at.％，Zr為0～1.0at.％，Cr為0～1.0at.％，W為0～1.0at.％，Ni為0～1.0at.％，Al為0～3.0at.％，Cu為0～2.0at.％，Ti為0～1.0at.％，Si為0～1.0at.％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的稀土鐵硼磁粉，其特征在于，該稀土鐵硼磁粉的內(nèi)稟矯頑力為6～20kOe，剩余磁化強度為5.0～14kOe，最大磁能積為5～38MGOe。
4.一種稀土鐵硼磁粉的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟A、按照上述權(quán)利要求1至3中任一項所述的稀土鐵硼磁粉進行配料；
步驟B、將配制好的原料制成稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片；
步驟C、對稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片進行退火處理；
步驟D、對退火處理后的稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片進行氫破碎處理，得到稀土鐵硼合金顆粒；
步驟E、將稀土鐵硼合金顆粒置入HDDR爐中進行吸氫-歧化階段的處理，并且在歧化階段開始5～60分鐘后，將HDDR爐內(nèi)的溫度提升20～50℃，將HDDR爐內(nèi)的氫氣壓力提升1～10kPa，再保溫保壓60～180分鐘，即完成吸氫-歧化階段的處理；
步驟F、在吸氫-歧化階段的處理完成后，向HDDR爐內(nèi)通入稀有氣體，使HDDR爐內(nèi)的氣壓提升70～75kPa，保壓30～120分鐘；再將HDDR爐內(nèi)的溫度提升20～50℃，保溫5～60分鐘；然后排出HDDR爐內(nèi)的氣體，使HDDR爐內(nèi)的氣壓在30分鐘內(nèi)下降到5.0kPa以下，脫氫階段開始；經(jīng)過5～60分鐘后，每隔5～60分鐘將HDDR爐內(nèi)的溫度降低15～25℃，直至HDDR爐的溫度達到800～850℃；再將HDDR爐內(nèi)抽真空至5×10-3Pa以下，停止加熱并繼續(xù)抽真空；當HDDR爐內(nèi)抽真空至3×10-3Pa以下，并且HDDR爐內(nèi)的溫度降低到700～800℃時，向HDDR爐內(nèi)通入稀有氣體進行強制冷卻，即完成脫氫-再結(jié)合階段的處理，得到稀土鐵硼磁粉。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述的吸氫-歧化階段的處理包括：將HDDR爐內(nèi)抽真空至5×10-3Pa以下，并將HDDR爐的溫度加熱到800～825℃，保溫5～60分鐘，停止抽真空；再經(jīng)過5～60分鐘后，向HDDR爐內(nèi)通入20～25kPa氫氣，保持氫氣的壓力恒定5～60分鐘，歧化階段開始；在歧化階段開始5～60分鐘后，將HDDR爐內(nèi)的溫度提升20～50℃，將HDDR爐內(nèi)的氫氣壓力提升1～10kPa，再保溫保壓60～180分鐘，即完成吸氫-歧化階段的處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的制備方法，其特征在于，在對退火處理后的稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片進行氫破碎處理之前，將稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片置于稀有氣體的保護下進行砂磨，從而去除稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片表面的氧化層和雜質(zhì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，在對退火處理后的稀土鐵硼合金鑄錠或稀土鐵硼合金速凝片進行氫破碎處理的過程中，初始氫氣壓力設定為0.2～0.4MPa，初始溫度設定為20～300℃，吸氫過程進行2～4個小時，然后于500～600℃脫氫。
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