[發(fā)明專利]一種MRI系統(tǒng)的快速主動勻場方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410674865.6 | 申請日: | 2014-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN104502873A | 公開(公告)日: | 2015-04-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張喬夫;王雷;朱劍鋒;李璟 | 申請(專利權)人: | 鑫高益醫(yī)療設備股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/3875 | 分類號: | G01R33/3875 |
| 代理公司: | 寧波誠源專利事務所有限公司 33102 | 代理人: | 劉鳳欽;鄧青玲 |
| 地址: | 315400 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 mri 系統(tǒng) 快速 主動 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種MRI系統(tǒng)的快速主動勻場方法。
背景技術
磁共振成像(Magnetic?Resonance?Imaging,MRI)是醫(yī)學影像領域中的一種高新技術,它利用特定的射頻脈沖和經(jīng)過空間編碼的磁場,使生物體內的氫核共振產(chǎn)生信號,經(jīng)計算機處理而成像。自20世紀70年代問世以來,MRI技術發(fā)展迅速,由于其具有對比度高、成像參數(shù)多、可任意層面斷層成像、無骨偽影干擾、無電離輻射等特點,目前已經(jīng)成為影像學檢查中最先進的工具之一,廣泛應用于人體各部位的臨床檢查。
使用MRI系統(tǒng)進行人體掃描時,人需要進入MRI系統(tǒng)提供的特定磁場當中。然后,受磁體設計、制造工藝以及原材料物理性質之間差異等多方面因素的影響和限制,任何磁體出廠后都不可能使整個有效孔徑內的磁場完全均勻。因此,磁體安裝就位后,還要在現(xiàn)場對磁場均勻度進行優(yōu)化,這個過程稱為勻場(shimming)。常用的勻場方法有被動勻場和主動勻場。另外,當不同的人進入磁場后也會對磁場的均勻性產(chǎn)生一定的影響,使得成像的效果不理想,因此需要借助主動勻場來實現(xiàn)針對個體的勻場。
主動勻場(active?shimming)又稱為有源勻場,是指在勻場線圈(shimming?coils,一階勻場線圈常用梯度線圈代替)中通以電流,產(chǎn)生附加磁場,并通過適當調整勻場線圈陣列中各線圈的電流強度,使其周圍的局部磁場發(fā)生變化來調節(jié)改善靜磁場的不均勻性,以提高靜磁場整體均勻性的過程。
然而,現(xiàn)有的對MRI系統(tǒng)進行主動勻場的技術,普遍勻場效果不佳,頻率壓脂效果不好,勻場過程不夠快速穩(wěn)定,有待于進一步改進。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是針對上述現(xiàn)有技術提供一種MRI系統(tǒng)的快速勻場方法,該方法能夠獲得很好的勻場效果,改善頻率壓脂序列的臨床表現(xiàn),同時勻場過程快速穩(wěn)定。
本發(fā)明解決上述技術問題所采用的技術方案為:一種MRI系統(tǒng)的快速主動勻場方法,其特征在于:包括如下步驟:
步驟1、設置MRI系統(tǒng)的掃描參數(shù),具體設置過程如下:
步驟(1-1)、在常溫條件下,將預先制作好的水模放入MRI掃描儀中掃描,前述水模的縱向馳豫時間T1值為570ms~580ms;
步驟(1-2)、采用雙回波序列進行掃描,即采用普通GRE序列,使用兩個不同的回波時間進行掃描,就構成了雙回波序列掃描,使用雙回波序列進行掃描可以采集得到雙回波數(shù)據(jù);設置掃描參數(shù):重復時間TR選擇15ms~25ms;兩個回波時間TE的值滿足水脂同相;
步驟(1-3)、采集數(shù)據(jù),觀察采集到的兩個回波數(shù)據(jù)的中心是否對齊,以及采集到的兩個回波數(shù)據(jù)是否是最大值,如不是,重復步驟(1-2),調整掃描參數(shù),直至采集到的兩個回波數(shù)據(jù)的中心對齊,且兩個回波數(shù)據(jù)達到最大值;
步驟2、采集數(shù)據(jù),具體過程如下:
步驟(2-1)、對已經(jīng)進行過被動勻場的MRI設備,記錄下當前勻場線圈中電流值,或將當前勻場線圈中電流值清零。
步驟(2-2)、將預先制作好的水模設置在MRI設備的主磁場中央,發(fā)射射頻脈沖,根據(jù)接收到的FID信號的譜峰位置,得到FID信號的中心頻率和水脂共振頻率差異;
步驟(2-3)、使用步驟1中提及的雙回波序列進行掃描,采集雙回波數(shù)據(jù),根據(jù)水脂共振頻率差異,設置兩個回波中心的時間之差,使得在這兩組回波中心水脂相位差保持一致;
步驟3、計算MRI系統(tǒng)磁場的不均勻性分布場,具體過程如下:
步驟(3-1)、同樣采用雙回波掃描序列,設置的MRI系統(tǒng)掃描參數(shù)與步驟1相同;對預先制作好的水模進行掃描,將x、y、z三個方向的勻場電流均設置為0,然后采集一組數(shù)據(jù)S0,該數(shù)據(jù)S0的第一個回波數(shù)據(jù)記為S01,第二個回波數(shù)據(jù)記為S02;
步驟(3-2)、將步驟(3-1)中采集的數(shù)據(jù)的兩個回波數(shù)據(jù)通過復數(shù)共軛相乘得到兩個回波數(shù)據(jù)的相位差ΔΦ0,ΔΦ0=S01×S*02,S*02是S02的復共軛;
步驟(3-3)、步驟(3-2)得到的相位差ΔΦ0是由MRI系統(tǒng)磁場的不均勻性引起的,因此將步驟(3-2)得到的相位差ΔΦ0作為MRI系統(tǒng)磁場的不均勻性分布場;
步驟4、復值迭代逼近方法獲得磁化矢量相位信息:
步驟(4-1)、采用逼近函數(shù)和迭代算法,對步驟3得到的相位差ΔΦ0進行局部或者全局逼近,得到相位差ΔΦ0的變化率;
步驟(4-2)、將步驟(4-1)得到的相位差ΔΦ0變化率作為該MRI系統(tǒng)的勻場系數(shù);
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