[發明專利]一種基于蒙特卡羅自適應降低方差的輻射屏蔽計算方法

有效

• 申請號: 201410668296.4
• 申請日: 2014-11-20
• 公開（公告）號: CN104376217A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發明（設計）人: 鄭華慶;宋婧;孫光耀;郝麗娟;吳宜燦
• 申請（專利權）人: 中國科學院合肥物質科學研究院
• 主分類號: G06F19/00
• 分類號: G06F19/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 成金玉;孟卜娟

1.一種基于蒙特卡羅自適應降低方差的輻射屏蔽計算方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)初始減方差參數獲取：

a)根據需要計算的基于蒙特卡羅的輻射屏蔽計算問題，建立確定論方法伴隨計算的計算模型；

b)根據確定論方法粒子輸運伴隨計算的結果，生成基于蒙特卡羅的輻射屏蔽計算的減方差參數，包括：源偏倚參數和權窗參數；

(2)基于蒙特卡羅的輻射屏蔽計算中粒子徑跡跟蹤及減方差參數調節：

a)分批進行基于蒙特卡羅的輻射屏蔽計算，首批用于輻射屏蔽計算的粒子模擬使用步驟(1)獲得的減方差參數；

b)在粒子模擬的過程中，對每一個粒子的徑跡進行跟蹤，保留對目標計數有貢獻的粒子徑跡信息，包括：粒子穿過柵元的編號，粒子在目標計數柵元中的權重；

c)在該批粒子模擬結束后，根據公式計算每個柵元的重要性，并按照重要性的倒數，重新定義各柵元的權窗參數，用于下批粒子模擬；

d)重復步驟(2)中的b)、c)部分，直至所有的分批粒子模擬結束，最后統計得到輻射屏蔽計算的結果。

2.根據權利要求1所述的一種基于蒙特卡羅自適應降低方差的輻射屏蔽計算方法，其特征在于：所述步驟(2)中的c)中當計算柵元重要性時，當計算得到的柵元重要性小于0.01時，則定義柵元的權窗參數為0；當計算得到的柵元重要性小于0.0001時，則定義柵元的權窗參數為-1，減小對目標計數柵元貢獻較小的粒子輸運的時間。