[發(fā)明專(zhuān)利]一種晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410666111.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104372407A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李劍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 李劍 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C30B29/06 | 分類(lèi)號(hào): | C30B29/06;C30B11/00 |
| 代理公司: | 北京紐樂(lè)康知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 蘇泳生 |
| 地址: | 212200 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶體 定向 凝固 生長(zhǎng) 設(shè)備 方法 | ||
1.一種晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,包括融化爐室(1),其特征在于,所述融化爐室(1)上端設(shè)有進(jìn)料口(18),所述進(jìn)料口(18)處設(shè)有相匹配的進(jìn)料閥門(mén)(5),所述進(jìn)料閥門(mén)(5)的下端且位于所述融化爐室(1)內(nèi)設(shè)有熔料坩堝(6),所述熔料坩堝(6)四周設(shè)有加熱器一(3),并且位于所述熔料坩堝(6)的中部下端設(shè)有硅液流動(dòng)口(9),所述硅液流動(dòng)口(9)區(qū)域設(shè)有相匹配的硅液流量控制閥(8)或硅液流量控制桿(7),并且所述硅液流動(dòng)口(9)下端設(shè)有硅液噴灑器(12),所述硅液噴灑器(12)下方設(shè)有相匹配的硅錠定向凝固系統(tǒng);所述硅錠定向凝固系統(tǒng)包括設(shè)置于所述硅液流動(dòng)口(9)與硅液噴灑器(12)之間的加熱器二(11),并且所述硅液噴灑器(12)下端設(shè)有硅錠支撐托盤(pán)(16),所述硅錠支撐托盤(pán)(16)四周有環(huán)繞有電磁感應(yīng)器(15),并且所述電磁感應(yīng)器(15)的電磁力將設(shè)置在所述硅錠支撐托盤(pán)(16)內(nèi)的硅料約束在電磁力的有效范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述融化爐室(1)內(nèi)側(cè)設(shè)有相匹配的保溫氈一(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述熔料坩堝(6)四周設(shè)有相匹配的石墨護(hù)板(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述硅液流動(dòng)口(9)的下端且位于保溫氈一(2)的內(nèi)側(cè)設(shè)有相匹配的陶瓷護(hù)板(10)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述硅錠支撐托盤(pán)(16)內(nèi)設(shè)有液態(tài)硅(13),并且所述硅錠支撐托盤(pán)(16)外設(shè)有相匹配的保溫氈二(17),所述電磁感應(yīng)器(15)設(shè)置于所述保溫氈二(17)的上端和液態(tài)硅(13)四周。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述硅錠支撐托盤(pán)(16)上端設(shè)有高度護(hù)板(19),并且所述高度護(hù)板(19)由陶瓷材料制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備,其特征在于,所述電磁感應(yīng)器(15)為類(lèi)圓形或類(lèi)方形結(jié)構(gòu),并且所述電磁感應(yīng)器的邊長(zhǎng)尺寸為10-60cm,工作頻率在1-10MKHz范圍內(nèi),工作電流在500-30000A以?xún)?nèi),工作電壓在1-1000V以?xún)?nèi)。
8.一種如權(quán)利要求1所述晶體硅定向凝固生長(zhǎng)設(shè)備的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)方法,其特征在于,包括:
將硅料通過(guò)進(jìn)料口(18)進(jìn)入到所述融化爐室(1)內(nèi)部,在熔料坩堝(6)中融化,并且定時(shí)向所述熔料坩堝(6)內(nèi)補(bǔ)充適量的固態(tài)硅料;
經(jīng)過(guò)融化后的硅液通過(guò)硅液流動(dòng)口(9)和硅液噴灑器(12)以一定速率并以360度角度流入到下方的硅錠定向凝固系統(tǒng)進(jìn)行凝固、長(zhǎng)晶過(guò)程;
其中,在凝固和長(zhǎng)晶過(guò)程中,由于所述硅錠支撐托盤(pán)(16)四周有環(huán)繞有電磁感應(yīng)器(15),所述電磁感應(yīng)器(15)的電磁力將設(shè)置在所述硅錠支撐托盤(pán)(16)內(nèi)的硅料約束在電磁力的有效范圍內(nèi);熔硅在凝固過(guò)程中自下而上定向凝固,同時(shí),所述硅錠支撐托盤(pán)(6)以一定的速率下拉,以確保晶硅生長(zhǎng)時(shí)固液界面維持在穩(wěn)定的高度;
當(dāng)晶體生長(zhǎng)的重量達(dá)到設(shè)定重量后,停止加入硅料,繼續(xù)底部硅錠的生長(zhǎng),直至結(jié)束;
最后,緩慢冷卻硅錠,并取出。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)方法,其特征在于,在硅液流動(dòng)過(guò)程中,通硅液流量控制桿(7)或硅液流量控制閥(8)控制液態(tài)硅的流量,保持硅液自由液面高度穩(wěn)定。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶體硅定向凝固生長(zhǎng)方法,其特征在于,在融化硅料過(guò)程中,所述加熱器二(11)維持系統(tǒng)所預(yù)設(shè)的特定溫度,以確保定向凝固所需的溫度梯度。
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