[發(fā)明專利]一種模擬底泥污染原位修復(fù)的試驗系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410659345.8
• 申請日: 2014-11-18
• 公開（公告）號: CN104374896A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙林;胡保安;宋偉男;王苗苗;毛國柱;宋文杰
• 申請（專利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類號: G01N33/24
• 分類號: G01N33/24;G01N33/18;C02F11/00
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 劉立春

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及河湖底泥污染修復(fù)技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說，是涉及一種能夠準(zhǔn)確反映底泥原位修復(fù)效果和監(jiān)測水體環(huán)境條件變化的模擬試驗系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)今我國水體污染狀況比較嚴(yán)重，特別是對于那些流經(jīng)城市中心區(qū)和工業(yè)區(qū)的河流，它們接收了大量的生活污水、工業(yè)廢水以及地表徑流攜帶的其他污染物。污染物進(jìn)入水體后，經(jīng)吸附、吸收、沉淀等作用逐漸沉積于底泥中，由于不斷的累積，底泥中污染物的濃度通常比上覆水中的高出幾倍。同時，污染物在底泥與上覆水之間保持著一種吸附與解吸的動態(tài)平衡，一旦外界環(huán)境條件發(fā)生改變，污染物質(zhì)會從底泥中釋放到上覆水。因此，底泥污染的研究和治理是解決水體污染問題的重要途徑之一。

目前，對底泥污染原位修復(fù)試驗裝置的研究不多，公開號為CN102092908A的我國專利披露了一種底泥污染物釋放的模擬裝置。該裝置由貯存槽、緩沖槽和污染物釋放槽三部分組成。可以用于研究pH值、溫度、溶解氧等外界環(huán)境因素對底泥污染物釋放的影響。公開號為CN?201681074?U的我國專利披露了一種用于水體底泥營養(yǎng)鹽釋放機理研究的柱形試驗裝置。但是這些現(xiàn)有技術(shù)中的裝置和方法在試驗過程中，會對整體的底泥和水樣造成擾動，造成試驗結(jié)果不準(zhǔn)確。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種可實現(xiàn)無擾動分層連續(xù)采樣，實時監(jiān)測水樣修復(fù)效果和環(huán)境條件變化，方便快捷，準(zhǔn)確可靠的一種模擬底泥污染原位修復(fù)的試驗系統(tǒng)。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的：

一種模擬底泥污染原位修復(fù)的試驗系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括水槽、水質(zhì)分析探頭、計算機、光源和風(fēng)扇，所述水槽底部設(shè)置有底泥，底泥的上部加入有水樣，所述水槽側(cè)壁設(shè)置有用于采集底泥樣品的取樣孔，所述水槽的上方及水槽上方的一側(cè)分別設(shè)置光源和風(fēng)扇，所述水質(zhì)分析探頭至少分為兩組并分別放置于水樣的深水區(qū)和淺水區(qū)，所述水質(zhì)分析探頭連接有計算機。

所述水質(zhì)分析探頭為多參數(shù)的水質(zhì)分析探頭。

所述水質(zhì)分析探頭定時監(jiān)測水樣中溫度、酸堿度、氧化還原電位、溶解氧和鹽度。

所述水質(zhì)分析探頭分為兩組，每組三個。

所述水質(zhì)分析探頭深淺交替布置。

所述水槽為不銹鋼板制成。

所述水槽底部和側(cè)部還設(shè)置有排水口。

所述光源為兩個40瓦的紫外線燈管構(gòu)成。

所述風(fēng)扇具有多個風(fēng)力大小可調(diào)的擋位。

所述水樣為河水或湖水。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案所帶來的有益效果是：

由于本發(fā)明的水槽底部設(shè)置有取樣孔，因此在模擬底泥原位修復(fù)時，該取樣孔可以實現(xiàn)無擾動分層取樣；此外，本發(fā)明的系統(tǒng)中還包括連接有計算機的多參數(shù)的水質(zhì)分析探頭，多參數(shù)水質(zhì)分析探頭放置于水樣的深水區(qū)和淺水區(qū)，計算機則可以實時準(zhǔn)確的得到探頭傳送的多種水樣參數(shù)，便于分析原位修復(fù)效果、同時可以實時監(jiān)測修復(fù)對水體環(huán)境條件的影響。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1中水槽的俯視圖。

附圖標(biāo)記：1-水槽??2-水質(zhì)分析探頭??3-計算機??4-光源??5-風(fēng)扇?6-底泥??7-水樣??8-取樣孔

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。

如圖1至圖2所示，一種模擬底泥污染原位修復(fù)的試驗系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括水槽1、水質(zhì)分析探頭2、計算機3、光源4和風(fēng)扇5，水槽1由7mm厚的不銹鋼板焊制而成，水槽1的底部和側(cè)部設(shè)置有排水口，本實施例中水槽1的長、寬、高分別為2m、1.5m、1.7m。所述水槽1的底部還設(shè)置有底泥6，底泥6的厚度約為0.5m，底泥6的上部加入有水樣7，水樣7為河水或者湖水，深度約為1m。

水槽1的其中一側(cè)側(cè)壁下方設(shè)置有用于采集底泥6樣品的取樣孔8，本實施例中取樣孔8為12個，取樣孔8之間的縱向間距為0.1m，橫向間距為0.5m，在側(cè)壁內(nèi)側(cè)設(shè)置有覆蓋取樣孔8的細(xì)紋紗布或其他材料，用以從取樣孔8滲出少量水樣以進(jìn)行分析對照。